[发明专利]一种阴离子交换膜的制备方法

权利要求书

1.一种阴离子交换膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

（1）膜液调配：将摩尔比为1:0.3-4的甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵和甲基丙烯酸二甲基氨基乙酯两种单体与交联剂、引发剂和有机溶剂混合，调配成均匀溶液，制得膜液；

（2）膜液吸附：以无纺布为基材，将基材浸没入步骤（1）制得的膜液中，含浸充分后，取出基材并将其放置于两片聚对苯二甲酸乙二酯薄膜中间，排除基材与薄膜之间可能存在的气泡，使基材与两片薄膜形成复合体；

（3）热聚合处理：将步骤（2）制得的复合体置于60oC-140oC温度条件下，使引发剂引发聚合反应，聚合反应完成后，剥离两片薄膜后就得到了阴离子交换膜。

2.根据权利要求1所述的阴离子交换膜的制备方法，其特征在于所述交联剂为二甲基丙烯酸乙二醇酯或/和二乙烯基苯，交联剂的摩尔量与两种单体总摩尔量的比值为1:3-5。

3.根据权利要求1所述的阴离子交换膜的制备方法，其特征在于所述引发剂为偶氮二异丁腈，引发剂的摩尔量与两种单体和交联剂摩尔量之和的比值为0.5-1.5:100。

4.根据权利要求1所述的阴离子交换膜的制备方法，其特征在于所述有机溶剂为N-甲基吡咯烷酮和异丙醇；N-甲基吡咯烷酮的质量与两种单体和交联剂质量之和的比值为3-10:100，异丙醇的质量与两单体和交联剂质量之和的比值为20-35:100。

5.根据权利要求1所述的阴离子交换膜的制备方法，其特征在于所述基材为聚烯烃或聚酰胺无纺布；所述基材厚度为80μm-180μm，孔隙率为30%-70%，孔径为0.1μm-2μm。

6.根据权利要求5所述的阴离子交换膜的制备方法，其特征在于所述基材为聚丙烯或尼龙66无纺布。