[实用新型]紫外光掩模板检测系统有效
申请号: | 201320080236.1 | 申请日: | 2013-02-21 |
公开(公告)号: | CN203069526U | 公开(公告)日: | 2013-07-17 |
发明(设计)人: | 刘海龙 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 王莹 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 紫外光 模板 检测 系统 | ||
1.一种紫外光掩模板检测系统,其特征在于,该系统包括:设备机架、构台、图像采集装置、感光处理系统和处理控制器,所述构台位于所述设备机架上端并与所述设备机架滑动连接,所述图像采集装置和感光处理系统设置在所述构台上。
2.如权利要求1所述的紫外光掩模板检测系统,其特征在于,所述感光处理系统包括:发光装置和感光装置,所述发光装置位于待测紫外光掩模板上方位置,所述感光装置位于待测紫外光掩模板下方并且与所述发光装置设置在同一竖直平面上。
3.如权利要求2所述的紫外光掩模板检测系统,其特征在于,所述构台上设置有构台导轨,所述发光装置通过构台导轨与所述构台连接。
4.如权利要求2所述的紫外光掩模板检测系统,其特征在于,所述感光装置通过固定部件与所述构台连接。
5.如权利要求2所述的紫外光掩模板检测系统,其特征在于,所述感光装置为光传感器。
6.如权利要求2-5任意一项权利要求所述的紫外光掩模板检测系统,其特征在于,所述发光装置的数量至少为1个,所述感光装置的数量至少为1个。
7.如权利要求6所述的紫外光掩模板检测系统,其特征在于,所述发光装置与感光装置的数量一致。
8.如权利要求3所述的紫外光掩模板检测系统,其特征在于,所述图像采集装置设置在所述构台导轨上。
9.如权利要求8所述的紫外光掩模板检测系统,其特征在于,所述图像采集装置为照相机或摄像机。
10.如权利要求9所述的紫外光掩模板检测系统,其特征在于,所述图像采集装置的数量至少为1个。
11.如权利要求1所述的紫外光掩模板检测系统,其特征在于,所述设备机架设置有机架导轨,所述构台的底端两侧通过机架导轨与所述设备机架滑动连接。
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