[实用新型]高附着力触摸屏用导电玻璃

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种高附着力触摸屏用导电玻璃。

背景技术

触摸屏用导电玻璃，是以超薄浮法玻璃作为基板，在高真空环境下，用平面磁控溅射技术在玻璃表面沉积ITO纳米薄膜，从而得到透过率高、均匀性好的玻璃。而在实际使用过程中，经常会出现ITO膜层在基板玻璃上附着牢度不足的问题，后续工厂在该导电玻璃进行酸性表面刻蚀时，常发生ITO膜层剥落现象，影响产品质量。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是：克服现有技术中之不足，提供一种具有高附着力的触摸屏用导电玻璃。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种高附着力触摸屏用导电玻璃，包括作为基板的玻璃层，玻璃层上设有ITO膜层，ITO膜层上设有Nb₂O₅膜层，玻璃层与ITO膜层之间设有SiO₂膜层。

具体说，所述的ITO膜层的厚度为10±1.0nm，Nb₂O₅膜层的厚度为5±0.5nm，SiO₂膜层的厚度为40±0.5nm。

本实用新型的有益效果是：本实用新型通过在玻璃层表面加镀一层与玻璃层材质相同的SiO₂膜层，随即在同一系统内进行磁控溅射ITO膜层，从而能极大地提高ITO膜层与玻璃层之间的附着力，解决了现有ITO膜层容易剥落的问题，有利于产品质量的提高和稳定。

附图说明

下面结合附图和实施方式对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型的截面结构示意图。

图中1.玻璃层 2.ITO膜层 3.Nb₂O₅膜层 4.SiO₂膜层

具体实施方式

现在结合附图对本实用新型作进一步的说明。这些附图均为简化的示意图仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。

如图1所示的一种高附着力触摸屏用导电玻璃，包括作为基板的玻璃层1，玻璃层1上设有ITO膜层2，ITO膜层2上设有Nb₂O₅膜层3，在玻璃层1与ITO膜层2之间设有SiO₂膜层4。

所述的ITO膜层2的厚度为10nm，Nb₂O₅膜层3的厚度为5nm，SiO₂膜层4的厚度为40nm。

由于在作为基板（主要成分为SiO₂）的玻璃层1上加镀了一层SiO₂膜层4，加镀的SiO₂膜层4与玻璃层1是同一种材质，结合度非常良好，而加镀的SiO₂膜层4在真空镀膜室内未与外界环境接触，其表面具有足够的洁净度和表层均匀性，随即在SiO₂膜层4上磁控溅射ITO膜层2，这样就能极大地提高ITO膜层2与玻璃层1之间的附着力，解决了现有ITO膜层2容易剥落的问题，有利于产品质量的提高和稳定。

上述实施方式只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并加以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围，凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围内。