[发明专利]信息记录介质用玻璃基板和信息记录介质用玻璃基板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201380034217.8 申请日: 2013-06-18
公开(公告)号: CN104395959B 公开(公告)日: 2017-12-01
发明(设计)人: 岛津典子 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: G11B5/73 分类号: G11B5/73;C03C15/00;C03C23/00;G11B5/84
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司11127 代理人: 丁香兰,庞东成
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 信息 记录 介质 玻璃 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种信息记录介质用玻璃基板,该信息记录介质用玻璃基板在玻璃基板的主表面上形成有磁性记录层,其用于磁性记录面中的记录密度为600Gbit/平方英寸以上的信息记录介质,其中,

对于该信息记录介质用玻璃基板而言,

在进行将该信息记录介质用玻璃基板在40℃、pH11的氢氧化钠溶液中浸渍30分钟的第1碱处理的情况下,所述第1碱处理前后的该信息记录介质用玻璃基板的表面的Ra变化值的平均值为以下,

在进行将该信息记录介质用玻璃基板在25℃、pH12的氢氧化钠溶液中浸渍2.5小时的第2碱处理的情况下,所述第2碱处理前后的该信息记录介质用玻璃基板的表面的Ra变化值的平均值为以下。

2.如权利要求1所述的信息记录介质用玻璃基板,其中,

对于所述信息记录介质用玻璃基板而言,

所述第1碱处理前后的Ra变化值的平均值为以下,

所述第2碱处理前后的Ra变化值的平均值为以下。

3.如权利要求1或2所述的信息记录介质用玻璃基板,其中,利用原子力显微镜所测定的该信息记录介质用玻璃基板的表面的Ra在1μm2区域的测定中为且在10μm2区域的测定中为

4.一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法,其为权利要求1~3中任一项所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法,其中,

对圆盘状玻璃部件的主表面进行研磨工序,

在所述研磨工序后,实施下述处理:使研磨后的所述圆盘状玻璃部件与0.1ppm~1.4ppm的含氢水接触1分钟~10分钟,之后使所述圆盘状玻璃部件与pH10.0~11.0的碱溶液接触5分钟~20分钟,之后使所述圆盘状玻璃部件与0.05%~0.5%的有机酸接触5分钟~20分钟;其后实施最终清洗工序。

5.一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法,其为权利要求1~3中任一项所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法,其中,

对圆盘状玻璃部件的主表面进行研磨工序,

在所述研磨工序后,实施下述处理:使研磨后的所述圆盘状玻璃部件与pH10.0~11.0的碱溶液接触5分钟~20分钟后,使所述圆盘状玻璃部件与0.05%~0.5%的有机酸接触5分钟~20分钟;其后实施最终清洗工序。

6.一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法,其为权利要求1~3中任一项所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法,其中,

对圆盘状玻璃部件的主表面进行研磨工序,

在所述研磨工序后,实施下述处理:使研磨后的所述圆盘状玻璃部件与1.5ppm的含氢水接触3分钟,之后使该研磨后的所述圆盘状玻璃部件与pH10.0~11.0的碱溶液接触5分钟~20分钟;其后实施最终清洗工序。

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