[发明专利]信息记录介质用玻璃基板和信息记录介质用玻璃基板的制造方法有效
申请号: | 201380034217.8 | 申请日: | 2013-06-18 |
公开(公告)号: | CN104395959B | 公开(公告)日: | 2017-12-01 |
发明(设计)人: | 岛津典子 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
主分类号: | G11B5/73 | 分类号: | G11B5/73;C03C15/00;C03C23/00;G11B5/84 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人: | 丁香兰,庞东成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 信息 记录 介质 玻璃 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及信息记录介质用玻璃基板和信息记录介质用玻璃基板的制造方法。
背景技术
以往,在用于计算机等的信息记录介质(磁盘记录介质)中,使用了铝基板或玻璃基板。在这些基板上形成有磁性薄膜层,利用磁头使磁性薄膜层磁化,由此在磁性薄膜层中记录信息。
近年来,在硬盘驱动器(HDD)装置中,记录密度愈发高密度化。因记录密度的高密度化,信息记录介质(载体)与在信息记录介质上浮起而进行记录的读写的磁头的间隙(浮起高度)缩小至几nm左右。
随着浮起高度变小,在将信息记录介质用于硬盘驱动器装置中的情况下,容易发生访问记录于介质中的数据时的读取错误和/或写入错误、及磁头碰撞介质表面的磁头碰撞等问题。为了抑制这些问题,作为信息记录介质而被容许的基板表面的缺陷的大小也进一步减小,因此,作为信息记录介质用玻璃基板,进一步追求表面平滑性的水准。为了抑制在玻璃基板表面所附着的异物、以及璃基板表面的波纹,对制造方法进行了各种钻研。
另一方面,近年来,HDD的存储容量被进一步提高,现在开发出具有如下记录密度的记录介质:在一张2.5英寸的记录介质中,记录容量为500GB(单面250GB)、面记录密度为600Gbit/平方英寸以上。在这种高记录密度的记录介质中,即使在使用平滑性非常高的玻璃基板的情况下,可知有时也会发生数据访问时的读取错误和/或写入错误,对其原因进行了分析,结果可知并不是现有的磁头碰撞所导致的错误。
针对上述问题,对于制造后的玻璃基板,包括表面状态在内进行了详细调查,但并未发现成为读取错误和/或写入错误发生的主要原因的缺陷,尚未找到具体的解决方案,但是由详细调查的结果发现,对制造后的玻璃基板设置磁性层后,会产生磁信号的信噪比的偏差,有可能成为发生读取错误和/或写入错误的主要原因。本发明中,将这种磁信号的信噪比的偏差也称为电磁转换特性(SNR)的降低。
对于这种磁信号的信噪比的偏差的主要原因进一步进行了研究,可知下述结果。一般来说,记录介质用的玻璃基板在制造后暂时被密封捆包并被运送,之后取出并供涂设磁性层的工序。此时,由于捆包时、运送时、取出时的条件的不同,玻璃基板的表面状态不均匀化,或者有时会附着少量的颗粒,因此为了使表面状态均匀,会使用碱溶液之类的清洗性比较高的清洗剂进行清洗,根据情况,也会使用具有使表面略微溶解的特性的清洗剂进行清洗(参照日本特开2006-127624号公报(专利文献1))。已经明确的是,上述磁信号的信噪比的偏差是在即将涂设这种磁性层前进行的清洗中玻璃表面的稳定状态受损所产生的,即使在制造后对玻璃基板本身进行检查,也无法判明主要原因。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2006-127624号公报
发明内容
发明要解决的课题
如上所述,在记录密度为600Gbit/平方英寸以上的硬盘驱动器装置中所用的玻璃基板中,虽然玻璃基板本身的平滑性、清洁性没有问题,但是作为信息记录介质,发生了电磁转换特性(SNR)降低的问题。
本发明人进行了反复验证,结果发现,在上述碱清洗工序的前后Ra(表面平均粗糙度)的变化大的玻璃基板中,显著地发生了电磁转换特性(SNR)的降低。
在碱清洗工序后玻璃基板的Ra发生大幅变化的情况下,会引起磁性薄膜层(磁性层)的取向性的偏差。其结果,可知:在Ra大幅变化的玻璃基板上形成了磁性薄膜层的信息记录介质中,会引起信噪比(S/N比:SNR)的降低。
本发明是鉴于上述实际情况而进行的,其目的在于提供一种即使在用于磁性记录面中的记录密度为600Gbit/平方英寸以上的记录密度非常高的信息记录介质的情况下也不会引起信噪比(S/N比)的降低的信息记录介质用玻璃基板以及信息记录介质用玻璃基板的制造方法。
用于解决课题的方案
基于本发明的信息记录介质用玻璃基板中,在玻璃基板的主表面上形成有磁性记录层,该信息记录介质用玻璃基板用于磁性记录面中的记录密度为600Gbit/平方英寸以上的信息记录介质,其中,对于该信息记录介质用玻璃基板而言,在进行将该信息记录介质用玻璃基板在40℃、pH11的氢氧化钠溶液中浸渍30分钟的第1碱处理的情况下,上述第1碱处理前后的该信息记录介质用玻璃基板的表面的Ra变化值的平均值为以下,在进行将该信息记录介质用玻璃基板在25℃、pH12的氢氧化钠溶液中浸渍2.5小时的第2碱处理的情况下,上述第2碱处理前后的该信息记录介质用玻璃基板的表面的Ra变化值的平均值为以下。
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