[发明专利]针对先进元件的晶圆上粒子性能的化学相容性涂层材料有效

申请号：	201380039967.4	申请日：	2013-07-26
公开（公告）号：	CN104704606B	公开（公告）日：	2017-09-01
发明（设计）人：	J·Y·孙;B·P·卡农戈;D·卢博米尔斯基	申请（专利权）人：	应用材料公司
主分类号：	H01L21/02	分类号：	H01L21/02;H01L21/205
代理公司：	上海专利商标事务所有限公司31100	代理人：	黄嵩泉
地址：	美国加利***	国省代码：	暂无信息
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摘要：
搜索关键词：	针对先进元件晶圆上粒子性能化学相容性涂层材料
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【权利要求书】：

1.一种用于半导体处理腔室的制品，所述制品包含：

Al、Al₂O₃或SiC中的至少一者的主体；以及

所述主体上的陶瓷涂层，所述陶瓷涂层由具有环形的粒子的粉末形成，包含化合物，所述化合物包含自50摩尔％至75摩尔％的范围内的Y₂O₃、自10摩尔％至30摩尔％的范围内的ZrO₂及自10摩尔％至30摩尔％的范围内的Al₂O₃，其中每英寸节结的数目在自30个节结至45个节结的范围内且孔隙率在自2.5％至3.2％的范围内。

2.如权利要求1所述的制品，其特征在于，粗糙度自220微英寸至250微英寸。

3.如权利要求1所述的制品，其特征在于，在所述主体的前侧及所述主体的后侧上的所述陶瓷涂层比在所述主体的外径上的所述陶瓷涂层更厚。

4.如权利要求1所述的制品，其特征在于，所述陶瓷涂层包含62.93摩尔％的Y₂O₃、23.13摩尔％的ZrO₂及13.94摩尔％的Al₂O₃。

5.一种用于半导体处理腔室的制品，所述制品包含：

Al、Al₂O₃或SiC中的至少一者的主体；以及

所述主体上的陶瓷涂层，所述陶瓷涂层由具有环形的粒子的粉末形成，包含Y₄Al₂O₉(YAM)的化合物及Y₂-xZr_xO₃的固溶体，其中通过一种方法将所述陶瓷涂层涂覆于所述主体上，所述方法包含：

提供具有在90A至150A的范围内的等离子体电流的等离子体喷涂系统；

在距离所述主体60mm与120mm之间处安置所述等离子体喷涂系统的喷灯支架；

使得气体以80升/分钟与130升/分钟之间的速率流过所述等离子体喷涂系统；

将包含氧化钇的粉末馈送入所述等离子体喷涂系统中，其中所述粉末的大部分粒子具有环形，每个环形的粒子具有球体，在所述球体相对侧上具有深凹痕；以及

用陶瓷涂层等离子体喷涂所述制品，其中与其他形状的粉末粒子相比较，由所述具有环形的粒子形成的所述陶瓷涂层具有改良后的形态及降低的孔隙率，其中改良后的形态包括减少的节结。

6.如权利要求5所述的制品，其特征在于，所述气体以90升/分钟与130升/分钟之间的速率流过所述等离子体喷涂系统。