[发明专利]闪烁体面板及闪烁体面板的制备方法有效
申请号: | 201380051929.0 | 申请日: | 2013-09-18 |
公开(公告)号: | CN104685575B | 公开(公告)日: | 2017-05-24 |
发明(设计)人: | 冈村昌纪;井口雄一朗;木下英树 | 申请(专利权)人: | 东丽株式会社 |
主分类号: | G21K4/00 | 分类号: | G21K4/00;G01T1/20 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 李志强,刘力 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 闪烁 体面 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及构成用于医疗诊断装置、非破坏性检查设备等的放射线检测装置的闪烁体面板。
背景技术
目前,在医疗现场,使用胶片的X射线图像得到广泛使用。但是,由于使用胶片的X射线图像为模拟图像信息,所以近年来开发了计算机X射线摄影(computed radiography:CR)或平板型的放射线检测器(flat panel detector:FPD)等数字式放射线检测装置。
在平板X射线检测装置(FPD)中,为了将放射线转换为可见光,使用闪烁体面板。闪烁体面板含有碘化铯(CsI)等X射线荧光体,根据照射的X射线,该X射线荧光体发出可见光,用TFT (薄膜晶体管)或CCD (电荷耦合元件)将此发光转换为电信号,由此将X射线的信息转换为数字图像信息。但是,FPD有S/N比低的问题。其原因在于:在X射线荧光体发光时,可见光会因X射线荧光体本身而散射等。为了减小该光的散射的影响,提出了在以间壁隔开的单元内填充X射线荧光体的方法(专利文献1~4)。
虽然这些间壁的形状因间距而不同,但大体上宽度为5~40μm的范围,高度为100~800μm的范围。
作为形成这样的间壁的方法,目前使用的方法为对硅晶片进行蚀刻加工的方法,或在通过丝网印刷法对作为颜料或陶瓷粉末与低熔点玻璃粉末的混合物的玻璃糊剂进行多层图案印刷后煅烧以形成间壁的方法等。但是,在对硅晶片进行蚀刻加工的方法中,可形成的闪烁体面板的尺寸因硅晶片的尺寸而受到限制,无法得到如500mm四方形那样的大尺寸的闪烁体面板。为了制备大尺寸的闪烁体面板,需要将多个小尺寸的面板并列以制备,但难以精密地进行这样的制备,因而难以制备大面积的闪烁体面板。
另外,在使用玻璃糊剂的多层丝网印刷法中,因丝网印刷版的尺寸变化等而难以进行高精度的加工。另外,在进行多层丝网印刷时,由于为了防止间壁的坍陷缺损而提高间壁的强度,所以需要一定的间壁宽度。但是,若间壁宽度变宽,则相对地间壁间的空间变窄,不仅可填充X射线荧光体的体积变小,而且填充量变得不均匀。因此,以该方法得到的闪烁体面板因X射线荧光体的量少而有发光变弱或产生发光不均匀的缺点。在低放射量下的摄影中,该缺点会成为进行清晰的摄影的障碍。
换言之,为了制备发光效率高且实现清晰的画质的闪烁体面板,需要可以高精度加工大面积、并且可使间壁的宽度变窄的间壁的加工技术,和不使X射线荧光体发出的可见光向间壁外部泄露的技术。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平5-60871号公报
专利文献2:日本特开平5-188148号公报
专利文献3:日本特开2011-007552号公报
专利文献4:日本特开2011-021924号公报。
发明内容
发明所要解决的课题
本发明的课题在于:消除上述缺点,提供大面积且高精度地形成宽度窄的间壁,并且发光效率高、实现清晰的画质的闪烁体面板。
解决课题的手段
该课题可通过以下任意技术手段达成。
(1) 闪烁体面板,其具有平板状的基板、在该基板上设置的间壁和由在通过上述间壁分隔的单元内填充的荧光体构成的闪烁体层,其中,上述间壁由以含有2~20质量%的碱金属氧化物的低熔点玻璃作为主要成分的材料构成,将上述间壁的顶部宽度Lt或上述间壁的90%高度的宽度L90除以上述间壁的半高宽度Lh而得到的值为0.45~1,并且将上述间壁的底部宽度Lb或上述间壁的10%高度的宽度L10除以上述半高宽度Lh而得到的值为1~3。
(2) 上述(1)所记载的闪烁体面板,其中,上述间壁的间距P为50~120μm,上述半高宽度Lh为5~30μm,并且上述间壁的高度H为100~500μm。
(3) 上述(1)所记载的闪烁体面板,其中,上述间壁的间距P为120~240μm,上述半高宽度Lh为10~40μm,并且上述间壁的高度H为200~800μm。
(4) 上述(1)~(3)中的任一项所记载的闪烁体面板,其中,与上述间壁的长度方向垂直的截面中连接间壁中部边缘与间壁底面边缘的线为曲线。
(5) 上述(1)~(4)中的任一项所记载的闪烁体面板,其中,上述间壁在表面形成反射膜。
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