[发明专利]含氮杂环化合物

权利要求书

1.一种由式(I)表示的含氮杂环化合物或其可药用盐，

(其中，X^A表示CH或氮原子，

R¹表示任选地具有取代基的环烷基、任选地具有取代基的芳基、任选地具有取代基的芳香族杂环基或任选地具有取代基的脂族杂环基，

L表示键或亚烷基，

Y^A表示-NH-、-O-、-NH-C(＝O)-、-S-、-NH-NR^1a-(其中R^1a表示低级烷基)或键(条件是Y^A和L不同时表示键)，

R²表示氢原子、氰基、卤素、任选地具有取代基的低级烷基或任选地具有取代基的低级烷氧基，

R^3A表示下式(R^3A-1)或(R^3A-2)

{其中，R³表示羟基、任选地具有取代基的低级烷基、任选地具有取代基的芳基或-NR^3aR^3b[其中，R^3a与R^3b相同或不同，并各自表示氢原子、任选地具有取代基的低级烷基、任选地具有取代基的低级烷氧基、任选地具有取代基的环烷基、任选地具有取代基的芳基、任选地具有取代基的芳香族杂环基、任选地具有取代基的脂族杂环基或-C(＝O)R^3c(其中，R^3c表示任选地具有取代基的低级烷基、任选地具有取代基的低级烷氧基、任选地具有取代基的低级烷基氨基、任选地具有取代基的环烷基氨基或任选地具有取代基的环烷基)，或者R^3a和R^3b与相邻的氮原子一起形成任选地具有取代基的含氮杂环基]，并且

R^3d表示氢原子、低级链烷酰基、芳酰基或低级烷基氨甲酰基}，并且

R^4A表示下式(R^4A-1)、(R^4A-2)、(R^4A-3)、(R^4A-4)、(R^4A-5)或(R^4A-6)

[其中，R⁴与R⁵相同或不同，并各自表示氢原子、羟基、氰基、任选地具有取代基的低级烷基、任选地具有取代基的芳基、任选地具有取代基的低级烷氧基或-C(＝O)R^4c(其中R^4c表示氨基、任选地具有取代基的烷基或任选地具有取代基的低级烷氧基)，或者R⁴和R⁵与相邻的碳原子一起形成任选地具有取代基的脂族杂环基，R⁶、R⁷、R⁸和R⁹表示任选地具有取代基的芳基，R¹⁰与R¹¹相同或不同，并各自表示氢原子、羟基、氰基、任选地具有取代基的低级烷基、任选地具有取代基的芳基、任选地具有取代基的低级烷氧基或-C(＝O)R^4c(其中R^4c表示氨基、任选地具有取代基的烷基或任选地具有取代基的低级烷氧基)，或者R¹⁰和R¹¹与相邻的碳原子一起形成任选地具有取代基的脂族杂环基])。

2.权利要求1的含氮杂环化合物或其可药用盐，其中X^A是CH。

3.权利要求1或2的含氮杂环化合物或其可药用盐，其中L是键。

4.权利要求1至3任一项的含氮杂环化合物或其可药用盐，其中Y^A是-NH-或-O-。

5.权利要求1至4任一项的含氮杂环化合物或其可药用盐，其中R¹是任选地具有取代基的芳基。

6.权利要求1至5任一项的含氮杂环化合物或其可药用盐，其中R²是氢原子、卤素或任选地具有取代基的低级烷基。

7.权利要求1至5任一项的含氮杂环化合物或其可药用盐，其中R²是氢原子。