[发明专利]一种氟硼酸钡钠紫外双折射晶体及生长方法和用途有效
申请号: | 201410093627.6 | 申请日: | 2014-03-13 |
公开(公告)号: | CN103849932A | 公开(公告)日: | 2014-06-11 |
发明(设计)人: | 李如康;王幸 | 申请(专利权)人: | 中国科学院理化技术研究所 |
主分类号: | C30B29/10 | 分类号: | C30B29/10;C30B29/12;C30B15/00 |
代理公司: | 北京法思腾知识产权代理有限公司 11318 | 代理人: | 杨小蓉 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 硼酸 紫外 双折射 晶体 生长 方法 用途 | ||
技术领域
本发明涉及可用于紫外深紫外的氟硼酸盐双折射晶体,特别是一种用于紫外深紫外的分子式为Ba2Na3(B3O6)2F的氟硼酸钡钠(简称:BNBF)双折射晶体及其生长方法和用途。
背景技术
双折射是指一束光投射到晶体表面上产生两束折射光的现象,产生这种现象的根本原因在于晶体材料的各向异性。晶体的双折射性质是电光功能晶体材料的重要光学性能参数。双折射晶体材料用途广泛,主要应用于光学和光通讯领域。
目前用作双折射晶体材料主要有MgF2晶体、TiO2晶体、LiNbO3晶体、方解石(CaCO3)晶体和YVO4晶体等。MgF2晶体的透过光谱范围是110~8500nm,它是一种很适合应用在深紫外波段的材料,但是其过小的双折射率限制了它的应用;TiO2晶体虽然双折射率大,但是其透过波段只能达到400nm左右,此外它的缺点生长困难;方解石晶体双折射率大,是最常用的双折射晶体,但其主要以天然形式存在,杂质含量高,并且它的使用波段也无法达到深紫外区(<250nm);YVO4是一种优良的人工双折射晶体,具有较大的双折射率,优良的物化稳定性与机械性能,而且容易生长,但是其透过范围是400~5000nm,不能用于紫外区;LiNbO3虽然也是一种很成熟的双折射晶体,但是其双折射率相对较小,在1.5μm波长下只有约YVO4的三分之一,而且其也不能用于紫外区域。
总结以上,应用于紫外深紫外波段的双折射晶体非常缺乏,因此非常有必要探寻一种易生长、物化性能好、紫外截止边短并且具有较大双折射率的晶体。
近几十年来,一些硼酸盐晶体由于其紫外截止边短,非线性光学系数大以及激光损伤阈值高等优点而受到广泛关注,例如低温相的BaB2O4(BBO)晶体和LiB3O5(LBO)晶体等。除了在非线性光学方面的应用以外,硼酸盐晶体在双折射材料,特别是紫外、深紫外区段,也具有重大的应用潜力。近年来有几种可以用作双折射材料的硼酸盐晶体见诸报道,如α-BBO(高温相BaB2O4)晶体、Ca3(BO3)2晶体、REBa3B9O18(RE=稀土元素)晶体等,但是这些晶体都有些缺陷。高温相BBO晶体的透过范围是189~3500nm,双折射率较大,但是该晶体易潮解,且存在固态相变,容易在生长过程中开裂,影响了晶体的成品率和利用率;Ca3(BO3)2晶体的紫外截止边达到了180nm,但是在紫外区透过率不高,而且双折射率偏小,限制了其应用;YBa3B9O18系列晶体由于含有稀土元素,在紫外区存在吸收,透过范围在300-3000nm,不适用于深紫外区域。
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