[发明专利]一种光学防伪单元有效
申请号: | 201410231808.0 | 申请日: | 2014-05-28 |
公开(公告)号: | CN103978803A | 公开(公告)日: | 2014-08-13 |
发明(设计)人: | 武文辉;史力国 | 申请(专利权)人: | 上海茂璞实业发展有限公司 |
主分类号: | B42D25/351 | 分类号: | B42D25/351;B42D25/20 |
代理公司: | 北京市广友专利事务所有限责任公司 11237 | 代理人: | 耿小强 |
地址: | 200063 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光学 防伪 单元 | ||
技术领域
本发明涉及光学防伪领域,具体涉及一种光学防伪单元。
背景技术
用于光学防伪领域的微透镜阵列防伪技术因其难以防制、美观、变化多样、体积小、重量轻、便于集成化、阵列化等优点已成为新的科研发展方向。CN101563640、CN101443692、CN101120139、CN101346244、US5712731、US0034082、US476556、US4892336、CN1271106、CN1552589等专利文献中公开了在基材的两个表面上分别带有微透镜阵列和微图文阵列的防伪元件,其中微图文阵列位于微透镜阵列的焦平面附近,通过微透镜阵列对微图文阵列的莫尔放大作用显示具有一定景深或呈现浮或沉的动态效果的图案。
这种结构的防伪技术因需要在基材两个表面依次进行加工,其缺陷如下:
(1)基材两个表面需分别进行表面处理和涂布,而且防伪元件需要底层保护层,造成工艺流程复杂,操作困难,制造材料费用高,生产效率低;
(2)基材两个表面上分别带有微透镜阵列和微图文阵列的防伪元件,要求基材必须是透明的,而且要达到光学级要求,透光率大于99%,造成选材受限,成本升高,且影响产品的应用范围;
(3)基材厚度d与微透镜的口径D、高度h、折射率n满足下列关系:
一般优选h=D/2,n=1.5,则d=D,一般优选D=10-50微米,则d=10-50微米,所以基材厚度不宜超过50微米。基材越薄要求设备精度越高,工艺控制难度越大,产品合格率降低,多方面造成成本大幅上升。
因此,提供一种易于制造,成本低廉,基材不受限制,应用范围广泛的光学防伪单元就成为该技术领域急需解决的技术难题。
发明内容
本发明的目的之一是提供一种易于制造,成本低廉,基材不受限制,应用范围广泛的光学防伪单元。
为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:
一种光学防伪单元,包括:基材;位于所述基材上面的微缩图案阵列层;位于所述微缩图案阵列层上面的微透镜阵列层。
一种优选技术方案,其特征在于,所述微缩图案阵列层与所述微透镜阵列层之间设有第一功能层;所述第一功能层为金属和/或非金属及其氧化物。
一种优选技术方案,其特征在于,所述微透镜阵列层上面设有第二功能层;所述第二功能层为水性树脂体系形成的透明涂层。
一种优选技术方案,其特征在于,所述微缩图案阵列层为紫外光固化材料。
一种优选技术方案,其特征在于,所述紫外光固化材料为丙烯酸酯树脂体系。
一种优选技术方案,其特征在于,所述丙烯酸酯树脂体系选自环氧丙烯酸酯树脂体系、聚氨酯丙烯酸酯树脂体系、聚酯丙烯酸酯树脂体系或氨基丙烯酸酯树脂体系中的一种或几种的任意比例的混合。如台湾长兴化学工业股份有限公司的621-80、6161-100、美国Sartomer沙多玛公司的CN966B85、CN962、CN2300、无锡诺克斯化工科技有限公司932-100等树脂体系。
一种优选技术方案,其特征在于,所述第一功能层可以是金属镀层或金属氧化物或非金属氧化物的填充层。
金属镀层可以选用金、银、铜、铝、锡、锌、铬、镍等金属;金属氧化物或非金属氧化物的填充层可以选用Al3O2、TiO2、MgF2、ZnS、SiO2等金属或非金属氧化物的一种或几种的任意比例的混合,金属氧化物或非金属氧化物的填充层还可以加入有机颜料,有机颜料可以选用偶氮颜料、酞青颜料、杂环颜料、色淀颜料、染料、荧光增白剂、荧光颜料等。
一种优选技术方案,其特征在于,所述微透镜阵列层为紫外光固化材料。
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