[发明专利]静电电容触摸屏面板及其制造方法在审
申请号: | 201410324017.2 | 申请日: | 2014-07-08 |
公开(公告)号: | CN104298407A | 公开(公告)日: | 2015-01-21 |
发明(设计)人: | 李龙勋 | 申请(专利权)人: | E和H有限公司 |
主分类号: | G06F3/044 | 分类号: | G06F3/044 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋融冰 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 静电 电容 触摸屏 面板 及其 制造 方法 | ||
1.一种静电电容触摸屏面板,包括:
衬底,所述衬底具有屏幕区域和无源区域;
透明电极图案部分,所述透明电极图案部分由所述衬底的至少一个侧面的所述屏幕区域上的图案化的透明导电层形成;以及
外电极线,所述外电极线图案化在所述衬底的至少一个侧面的所述无源区域上,且与所述透明电极图案部分电连接,
其中,所述外电极线包括依次堆叠在所述透明导电层上的第一金属层至第三金属层,以及所述第一金属层至第三金属层分别由NiCr合金、包括Cu的导电金属和NiCr合金形成。
2.根据权利要求1所述的静电电容触摸屏面板,其中,所述第一金属层和所述第三金属层的所述NiCr合金的Ni和Cr的重量比为97∶3至93∶7。
3.根据权利要求2所述的静电电容触摸屏面板,其中,所述第一金属层和所述第三金属层的所述NiCr合金的Ni和Cr的重量比为95∶5。
4.根据权利要求1-3任一项所述的静电电容触摸屏面板,其中,所述第一金属层和所述第三金属层的厚度为10nm-60nm。
5.根据权利要求1-3任一项所述的静电电容触摸屏面板,其中,所述第二金属层由纯Cu形成。
6.根据权利要求1所述的静电电容触摸屏面板,其中,所述透明电极图案部分在所述透明电极图案部分彼此相交的方向上形成在所述衬底的两个侧面上,以及
每个所述外电极线形成在所述衬底的一个侧面上,以与形成在所述衬底的两个侧面上的每个所述透明电极图案部分电连接,一个所述外电极线与形成在所述衬底的另一个侧面处的所述透明电极图案部分通过通孔电连接,所述通孔形成在所述衬底的所述无源区域内且穿过所述衬底的两个侧面。
7.一种静电电容触摸屏面板的制造方法,包括:
提供衬底,在所述衬底的至少一个侧面上形成用于形成透明电极图案部分的透明导电层,且所述衬底具有屏幕区域和无源区域;
在所述衬底的至少无源区域内的所述透明导电层的暴露的表面上沉积用于形成外电极线的多金属层,所述多金属层包括依次堆叠的第一金属层至第三金属层,所述第一金属层至第三金属层分别由NiCr合金、包括Cu的导电金属和NiCr合金形成;以及
通过曝光/刻蚀在所述衬底的一个侧面的所述屏幕区域和所述无源区域内分别形成所述透明电极图案部分和连接至所述透明电极图案部分的外电极线,所述透明电极图案部分形成为暴露图案化的透明导电层,所述外电极线包括所述透明导电层上的所述第一金属层至第三金属层并且是图案化的。
8.根据权利要求7所述的方法,其中,所述第一金属层和所述第三金属层的所述NiCr合金的Ni和Cr的重量比为97∶3至93∶7。
9.根据权利要求8所述的方法,其中,所述第一金属层和所述第三金属层的所述NiCr合金的Ni和Cr的重量比为95∶5。
10.根据权利要求7-9任一项所述的方法,其中,所述第一金属层和所述第三金属层的厚度为10nm-60nm。
11.根据权利要求7-9任一项所述的方法,其中,所述第二金属层由纯Cu形成。
12.根据权利要求7所述的方法,其中,所述提供衬底包括:提供在两个侧面上形成有用于形成所述透明电极图案部分的透明导电层的所述衬底,
所述方法进一步包括在沉积所述金属层之前,在所述衬底的所述无源区域上形成穿过所述衬底的两个侧面的用于形成通孔的贯穿孔,
沉积所述金属层包括在所述衬底的两个侧面上沉积由所述第一金属层至第三金属层形成的多层金属层,以及
形成所述透明电极图案部分和所述外电极线包括:通过双面曝光/刻蚀在所述衬底的一个侧面和另一个侧面中的每一个的所述触摸屏区域上在第一透明电极图案和第二透明电极图案彼此相交的方向上形成第一透明电极图案部分和第二透明电极图案部分,在所述衬底的一个侧面的所述无源区域上形成与所述第一透明电极图案部分电连接的第一外电极线,在所述衬底的一个侧面的所述无源区域上形成通过所述通孔与所述第二透明电极图案部分电连接的第二外电极线。
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