[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：

密闭腔室，其具有筒状的分隔壁和盖部件，所述分隔壁具有上部开口且用于划分与所述上部开口相连通的内部空间，所述盖部件用于开闭所述上部开口，所述密闭腔室在由所述盖部件使所述上部开口闭塞的状态下实现所述内部空间的密闭状态；

基板保持旋转单元，其在所述密闭腔室的内部空间内，一边保持基板一边使该基板旋转；

喷嘴，其在所述密闭腔室的内部空间内，向所述基板保持旋转单元所保持的基板的主面喷出处理液；

喷嘴臂，其支撑所述喷嘴，而且，经由形成在所述密闭腔室的所述分隔壁上且位于所述上部开口的下方的贯通孔，在所述密闭腔室的内外延伸；

驱动单元，其配置在所述密闭腔室外，在所述内部空间的所述密闭状态下，用于使所述喷嘴臂沿所述基板保持旋转单元所保持的基板的主面移动。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述喷嘴臂呈沿着规定的基准线的形状，所述规定的基准线沿着所述基板保持旋转单元所保持的基板的主面延伸；

所述贯通孔沿着所述密闭腔室的分隔壁上的所述基准线形成；

所述驱动单元使所述喷嘴臂沿所述基准线移动。

3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述基准线为直线，

所述驱动单元包括使所述喷嘴臂沿所述基准线进行直线运动的直线驱动单元。

4.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，

所述直线驱动单元包括：

驱动臂，其连接在所述喷嘴臂上，并能够变换连接位置；

摆动驱动单元，其使所述驱动臂围绕与所述基准线垂直的规定的摆动轴线摆动。

5.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述基准线呈圆弧状，

所述驱动单元包括使所述喷嘴臂沿所述基准线进行圆弧运动的圆弧驱动单元。

6.如权利要求1至5中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，还包括用于密封所述喷嘴臂与所述密闭腔室的所述分隔壁之间的密封结构。

7.如权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，所述密封结构包括：

液体密封结构，其用液体密封所述喷嘴臂与所述密闭腔室的所述分隔壁之间；

气体密封结构，其用气体密封所述喷嘴臂与所述密闭腔室的所述分隔壁之间。

8.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，所述气体密封结构配置在与所述液体密封结构相比更靠近所述密闭腔室的内部空间一侧的位置。

9.如权利要求1至5中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述驱动单元，通过使所述喷嘴臂从待机位置向处理液喷出位置移动，使所述喷嘴沿所述基板保持旋转单元所保持的基板的主面移动。

10.如权利要求1至5中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述喷嘴臂呈直线形状。

11.如权利要求1至5中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述喷嘴臂呈圆弧形状。