[发明专利]自旋处理装置

权利要求书

1.一种自旋处理装置，使基板旋转并对所述基板进行处理，其特征在于，

具备液体承接部，所述液体承接部以从旋转的基板的外周离开并包围所述旋转的基板的方式形成为环状，承接并收纳从所述旋转的基板飞散的液体，

所述液体承接部具备多个倾斜板材，所述多个倾斜板材单独地设置于所述液体承接部的内周面，以沿着所述基板的旋转方向逐渐降低的方式分别倾斜，承接从所述旋转的基板飞散的液体，

所述多个倾斜板材以从所述旋转的基板飞散的液体不会与所述液体承接部的内周面碰撞的方式在所述液体承接部的内周面的周向上排列，

所述液体承接部的上端部以遍及所述液体承接部的整周而朝内侧倾斜的方式形成，

所述多个倾斜板材形成为延伸至所述上端部的内周面。

2.如权利要求1所述的自旋处理装置，其特征在于，

所述多个倾斜板材形成为从所述旋转的基板飞散的液体与所述各倾斜板材的下表面碰撞。

3.一种自旋处理装置，使基板旋转并对所述基板进行处理，其特征在于，

具备液体承接部，所述液体承接部以从旋转的基板的外周离开并包围所述旋转的基板的方式形成为环状，承接并收纳从所述旋转的基板飞散的液体，

所述液体承接部具备多个倾斜板材，所述多个倾斜板材单独地设置于所述液体承接部的内周面，以沿着所述基板的旋转方向逐渐降低的方式分别倾斜，承接从所述旋转的基板飞散的液体，

所述多个倾斜板材以从所述旋转的基板飞散的液体不会与所述液体承接部的内周面碰撞的方式在所述液体承接部的内周面的周向上排列，

所述多个倾斜板材形成为从所述旋转的基板飞散的液体与所述倾斜板材的下表面碰撞。

4.如权利要求1或3所述的自旋处理装置，其特征在于，

所述多个倾斜板材分别设置成：相比所述液体承接部的内周面而先与从所述基板的端部沿着基板旋转的切线方向延伸的假想线交叉。

5.如权利要求1或3所述的自旋处理装置，其特征在于，

还具备分隔部件，所述分隔部件设置于所述液体承接部的环内且形成为环状，形成用于沿着所述液体承接部的内周面产生气流的环状的内侧排气流路。

6.如权利要求1或3所述的自旋处理装置，其特征在于，

还具备杯体，所述杯体以从所述液体承接部的外周离开并包围所述液体承接部的方式形成为环状，且形成用于从所述液体承接部的上表面沿着外周面产生气流的环状的外侧排气流路，

所述液体承接部具备：

环状的活动液体承接部，形成为能够升降，在内周面具有所述多个倾斜板材；以及

环状的固定液体承接部，收纳由所述多个倾斜板材承接的液体，

当所述活动液体承接部上升至液体承接位置时，从旋转的基板飞散的液体与所述多个倾斜板材碰撞，并收纳到所述固定液体承接部，当所述活动液体承接部下降至闭盖位置的情况下，从旋转的基板飞散的液体与所述杯体的内周面碰撞，并在所述外侧排气流路中流动。

7.如权利要求6所述的自旋处理装置，其特征在于，

还具备分隔部件，所述分隔部件设置于所述液体承接部的环内且形成为环状，形成用于沿着所述液体承接部的内周面产生气流的环状的内侧排气流路。