[发明专利]光致抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含：

具有由式(2)表示的基团的树脂：

其中R^a1’和R^a2’各自独立地表示氢原子或其中亚甲基可以被氧原子或硫原子代替的C1-C12烃基，并且R^a3’表示其中亚甲基可以被氧原子或硫原子代替的C1-C20烃基，

或者R^a1’和R^a2’中的一个表示氢原子或其中亚甲基可以被氧原子或硫原子代替的C1-C12烃基，并且另一个结合至R^a3’以形成其中亚甲基可以被氧原子或硫原子代替的C2-C20二价烃基，并且*表示结合位置；

酚醛清漆树脂；

酸生成剂；

具有硫醚键和巯基的化合物；和

溶剂。

2.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述化合物是具有硫醚键和巯基的杂环化合物。

3.根据权利要求2所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述杂环化合物是由式(IA)表示的：

其中Rⁱ¹表示氢原子、-SR¹、-NR²R³、C1-C10脂族烃基、C3-C18脂环烃基，或C6-C14芳香族烃基；

R¹表示氢原子、C1-C12酰基、C1-C10脂族烃基、C3-C10脂环烃基，或C6-C14芳香族烃基，

R²和R³各自独立地表示氢原子、其中氢原子可以被羟基代替的C1-C12酰基、其中氢原子可以被羟基代替的C1-C10脂族烃基、其中氢原子可以被羟基代替的C3-C10脂环烃基，或其中氢原子可以被羟基代替的C6-C14芳香族烃基；

Rⁱ²和Rⁱ³各自独立地表示氢原子、C1-C10脂族烃基、C3-C18脂环烃基，或其中氢原子可以被C1-C10烷基代替的C6-C14芳香族烃基；

A和B各自独立地表示氮原子或碳原子；并且

“n”和“m”各自独立地表示0或1。

4.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述化合物是在侧链包括具有带有硫醚键和巯基的杂环的部分的聚合物。

5.一种用于制备光致抗蚀剂图案的方法，所述方法包括：

(1)将根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物涂敷在基板上的步骤，

(2)通过干燥所述光致抗蚀剂组合物而形成光致抗蚀剂组合物膜的步骤，

(3)将所述光致抗蚀剂组合物膜曝光的步骤，和

(4)将所曝光的光致抗蚀剂组合物膜显影的步骤。