[发明专利]一种Ni-SiC纳米涂层及其制备方法在审
| 申请号： | 201410604224.3 | 申请日： | 2014-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN104451510A | 公开（公告）日： | 2015-03-25 |
| 发明（设计）人： | 程敬卿;薛卫昌 | 申请（专利权）人： | 安徽鼎恒再制造产业技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | C23C4/06 | 分类号： | C23C4/06;C23C4/12;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 241000 安徽省芜湖市高*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 ni sic 纳米 涂层 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种Ni-SiC纳米涂层，其特征在于：包括以下组分：混合材料和微量元素，所述微量元素和混合材料的重量比例为1.25％:1；
所述混合材料包括以下组分：Ni60A占12％～37％，SiC占52％～81％，CaF2占1％～10％。
2.根据权利要求1所述的一种Ni-SiC纳米涂层，其特征在于：所述微量元素材料包括Go、Fe、W、Ni、Mn。
3.一种Ni-SiC纳米涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤为：先对混合材料采用干式粉碎法制得纳米球，再采用活性剂保护法混合了微量元素制得纳米粉末，最后通过激光熔覆喷涂在机件上形成涂层。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
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