[发明专利]蓝光偏振薄膜、其制备方法及蓝光背光源和液晶显示装置有效
申请号: | 201410652610.X | 申请日: | 2014-11-17 |
公开(公告)号: | CN104327845A | 公开(公告)日: | 2015-02-04 |
发明(设计)人: | 肖昂 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | C09K11/06 | 分类号: | C09K11/06;G02B5/30;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 金鲜英;钟海胜 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 偏振 薄膜 制备 方法 背光源 液晶 显示装置 | ||
技术领域
本发明涉及有机电致发光技术,尤其涉及一种蓝光偏振薄膜、其制备方法及蓝光背光源和液晶显示装置。
背景技术
在有机电致发光器件研制过程中,由于蓝光材料比较稀缺,如何实现蓝光发射一直是一个核心的问题。如果能够实现蓝光发射,可以进一步与绿光和红光发射材料构成三基色发射,从而得到白光发射。
在现有技术中,为达到一定的均匀的荧光强度需要将发光物质引入到无机基质或聚合物中。采用这种方法,发光材料的合成难度增加,发光薄膜的均一性调控有难度,并且从成本上说达到相同荧光强度耗费的发光物质较多。
发明内容
本发明的目的是提供一种蓝光偏振薄膜、其制备方法及蓝光背光源。
本发明所提供的蓝光偏振薄膜,其为通过镁铝水滑石和三(8-羟基喹啉-5-磺酸)铝交替沉积形成的多层薄膜。
其中,所述多层薄膜为4-10层。
其中,镁铝水滑石层的厚度为10-20nm;三(8-羟基喹啉-5-磺酸)铝层的厚度为10-20nm。
其中,所述荧光光谱的最大发射值为470-490nm。
其中,所述蓝光偏振薄膜为通过将基底浸入10-20g/L镁铝水滑石溶液中10-15min,取出吹干,然后再浸入3-10g/L三(8-羟基喹啉-5-磺酸)铝溶液中10-15min,取出吹干,如此完成一个循环,重复上述循环而获得的多层薄膜。
本发明所提供的蓝光偏振薄膜的制备方法,包括将基底浸入10-20g/L镁铝水滑石溶液中10-15min,取出吹干,然后再浸入3-10g/L三(8-羟基喹啉-5-磺酸)铝溶液中10-15min,取出吹干,如此完成一个循环,重复上述循环而获得的多层薄膜。
其中,重复上述循环2-5次。
本发明所提供的蓝光背光源,其包括上述任一所述的蓝光偏振薄膜。
本发明所提供的液晶显示装置,包括上偏振片、彩膜基板、液晶层、阵列基板、下偏振片和背光源,其中所述背光源为上述蓝光背光源。
本发明的蓝光偏振薄膜的荧光光谱的最大发射值为470-490nm,在蓝光区内,且荧光各向异性值为0.1-0.2,具有偏振特性,可以用于液晶显示器背光源,既有发光特性又有偏振特性,改变了传统液晶显示器既在靠近背光源侧使用偏振片又需要在背光源中使用发光材料的劣势。
具体实施方式
本发明的蓝光偏振薄膜为通过镁铝水滑石和三(8-羟基喹啉-5-磺酸)铝交替沉积形成的多层薄膜。通过交替沉积方法获得的薄膜均匀致密并且因为单层膜的厚度可以精确控制并且重复沉积的膜的厚度可控,薄膜的发光强度可以通过控制沉积的层数来精确调控。本发明的交替沉积方法中使用的蓝光材料(由三(8-羟基喹啉-5-磺酸)铝薄膜形成)浓度较低,另外镁铝水滑石起到隔离两蓝光材料薄膜的作用,避免了蓝光材料的荧光淬灭。因此多层薄膜的层数越多,沉积的蓝光材料越多,蓝光强度也会越高。
其中,多层薄膜为4-10层,镁铝水滑石层的厚度为10-20nm;三(8-羟基喹啉-5-磺酸)铝层的厚度为10-20nm。
其中,蓝光偏振薄膜的荧光光谱的最大发射值为470-490nm,其均在蓝光区。
其中,所述蓝光偏振薄膜为通过将基底浸入10-20g/L镁铝水滑石溶液中10-15min,取出吹干,然后再浸入3-10g/L三(8-羟基喹啉-5-磺酸)铝溶液中10-15min,取出吹干,如此完成一个循环,重复上述循环而获得的多层薄膜。
本发明的蓝光背光源,其包括上述任一所述的蓝光偏振薄膜。
本发明所提供的液晶显示装置,包括上偏振片、彩膜基板、液晶层、阵列基板、下偏振片和背光源,其中所述背光源为上述蓝光背光源。
实施例1.蓝光偏振薄膜的制备
1.1镁铝水滑石的制备
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