[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，具备：与基板上的防静电膜的表面接触而相对移动、对该防静电膜的表面进行擦拭的擦拭部件，

上述擦拭部件，具备：

作为基体的弹性体；以及

布，在上述弹性体的表面设置，与相对移动的上述防静电膜的表面接触。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

上述擦拭部件设置为：在上述布与上述防静电膜的表面接触的状态下，上述弹性体根据上述防静电膜的相对移动而发生变形。

3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

上述擦拭部件对上述防静电膜的表面的载荷，是上述擦拭部件不会从上述基板将上述防静电膜剥离而能够除去上述防静电膜的表面上的微粒的载荷。

4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

上述弹性体具有：

倾斜部，倒向上述防静电膜的相对移动方向的上游侧而相对于上述防静电膜的表面倾斜；以及

延伸部，沿着上述防静电膜的相对移动方向延伸，

上述布在位于相对移动的上述防静电膜侧的上述倾斜部的表面以及上述延伸部的表面设置。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

上述布为如下状态：包括与上述防静电膜的表面接触的部分、上述防静电膜的相对移动方向的上游侧的区域被处理液浸润，上述防静电膜的相对移动方向的下游侧的区域干燥。

6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

还具备向上述布供给处理液的供液部。

7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，

上述处理液为酒精。

8.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

在上述弹性体的至少上述延伸部上，设有在其厚度方向上延伸并且在厚度方向两端部开口的多个微细孔，

上述基板处理装置还具备供气机构，上述供气机构在上述延伸部的与设有上述布的表面相反的表面上设置，通过上述多个微细孔向上述布供给空气。

9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

还具备供气机构，上述供气机构在上述基板的搬送方向上设置在上述防静电膜的相对移动方向的下游侧，通过对上述布的与上述防静电膜的表面接触的部分供给空气而除去上述布的表面上附着的微粒。

10.根据权利要求1至9中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，还具备：

清洗部，利用液体的一元流体或液体与气体的二元流体对上述防静电膜的表面进行清洗；以及

干燥部，朝向上述防静电膜的表面放出气体。