[发明专利]基板处理装置

说明书

技术领域

本发明的实施方式涉及基板处理装置。

背景技术

作为基板处理装置，开发了在触摸面板等的制造工序中，利用处理液(例如药液或功能水等)对玻璃等的基板表面进行处理，其后对基板表面进行干燥的基板处理装置。有的方案在用于触摸面板等的玻璃等的基板表面上，为了防止指纹和其它污渍的附着，形成有防止静电的防静电膜(AS涂层)。其膜厚例如为数nm～数百nm。

在上述的基板处理前，为了从基板上的防静电膜除去微粒(异物)、例如带有氟离子的微粒除去，采用人工手洗(作为一例，如用包含液体的布擦拭基板上的防静电膜的表面的作业等)。并且，带有氟离子的微粒，是在上述的基板处理之前的工序(例如成膜工序)中，在基板表面上形成防静电膜时附着到防静电膜上的。

但是，在如上所述从基板上的防静电膜除去微粒时，需要进行人工手洗，因此生产速度降低，并且成本也会上升。另外，即使通过人工手洗，也难以将带有氟离子的微粒的完全除去，微粒可能会形成雾状的膜而残留。因此，希望实现生成速度的提高以及成本的削减、并且可靠地除去微粒。

发明内容

本发明要解决的课题是，提供一种能够实现生产速度的提高以及成本的削减、并且可靠地除去微粒的基板处理装置。

实施方式的基板处理装置，具备：与基板上的防静电膜的表面接触而相对移动、对该防静电膜的表面进行擦拭的擦拭部件，擦拭部件具备：作为基体的弹性体；和在弹性体的表面上设置、与相对移动的防静电膜的表面接触的布。

根据上述实施方式的基板处理装置，能够实现生产速度的提高以及成本的削减、并且可靠地除去微粒。

附图说明

图1为表示第一实施方式的基板处理装置的概略构成的图。

图2为表示第一实施方式的擦拭部的概略构成的图。

图3为表示第二实施方式的擦拭部的概略构成的图。

图4为表示第三实施方式的擦拭部的概略构成的图。

图5为表示第一以及第二实施方式的擦拭部的处理条件和结果的图表。

具体实施方式

参照图1以及图2对第一实施方式进行说明。

如图1所示，第一实施方式的基板处理装置1，具备：搬送基板W的搬送部2、对搬送部2搬送的基板W进行处理的处理部3、对搬送部2搬送的基板W进行清洗的清洗部4、对搬送部2搬送的基板W进行干燥的干燥部5。

搬送部2，由支撑基板W的载台2a、将该载台2a向规定的搬送方向A1(图1中的右方向)搬送的搬送机构2b构成。基板W在载台2a的载置面上安置，通过搬送机构2b与载台2a一起向水平面内的规定方向搬送。并且，作为搬送机构2b，例如可以使用以伺服电机为驱动源的输送螺杆式的移动机构、以直线电机为驱动源的直线电机式的移动机构等。

这里，基板W例如是玻璃等的矩形状的基板，在该基板W的表面上形成有防止静电的防静电膜(AS涂层)Wa。在该防静电膜Wa上可能附着了带有氟离子的微粒(异物)。该微粒，例如是在基板W的表面上形成防静电膜Wa的工序(例如成膜工序)中附带氟离子的。

处理部3，具备：对搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面进行擦拭(wipe)的擦拭部3a、向搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面供给冲洗液的冲洗部3b、对搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面进行刷洗(brushing)的刷部3c、向搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面供给冲洗液的冲洗部3d。

如图2所示，擦拭部3a，具有：对搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面进行擦拭的擦拭部件11、保持该擦拭部件11的保持部件12、和支撑该保持部件12的支撑臂13。

擦拭部件11，由作为基体的弹性体11a、和在该弹性体11的表面即基板W的搬送方向A1(图2中的右方向)的上游侧(以下简称为基板W的搬送方向上游侧)的表面上设置的布11b构成。

弹性体11a，例如形成为长方形的板形状，其长边为基板W的宽度(与搬送方向A1正交的宽度)以上。该弹性体11a设定为：其长边与基板W的搬送方向A1正交，并且倒向基板W的搬送方向上游侧而相对于载台2a上的基板W的表面以规定的角度倾斜。作为弹性体11a，例如可以使用橡胶等各种弹性体。

布11b，以覆盖弹性体11a的位于基板W的搬送方向上游侧的整个表面的方式设置。作为该布11b，例如可以使用棉布等能够吸入液体的各种布。