[实用新型]一种金属蚀刻液储液罐有效

专利信息
申请号: 201420371384.3 申请日: 2014-07-07
公开(公告)号: CN204056794U 公开(公告)日: 2014-12-31
发明(设计)人: 王满根 申请(专利权)人: 宁波东盛集成电路元件有限公司
主分类号: B65D85/84 分类号: B65D85/84;B65D25/02;B65D25/56
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 杜军
地址: 315806 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 金属 蚀刻 液储液罐
【说明书】:

技术领域

本实用新型属于加工设备技术领域,涉及一种金属蚀刻设备的金属蚀刻液储液罐。

背景技术

金属蚀刻片是将金属片材经化学浸湿后得到的带有预定图文的金属结构,其被广泛的应用于集成电路领域以及用做外观装饰件。

现有的金属蚀刻片加工方法,一般是通过在金属片材上滚涂光胶,随后通过带有预设图案的光罩进行曝光使金属片材上留下图案化的光胶膜,随后通过化学浸蚀,将金属片材上没有覆盖光胶膜的部分腐蚀,留下的部分则形成金属蚀刻片。

化学浸蚀过程中需要使用金属蚀刻液,由于金属蚀刻液为化学药剂配置而成,且蚀刻不同材质金属时需要使用不同的化学药剂,化学药剂调配过程中可能析出颗粒杂质,不同的化学药剂相互反应也会产生一些颗粒物质,这些颗粒物质如随金属蚀刻液进入蚀刻腔体则可能造成金属蚀刻过程中出现缺陷。

发明内容

针对现有的金属蚀刻液存在的上述问题,本实用新型提供的技术方案的主要目的是:提供一种可去除金属蚀刻液中析出颗粒物的金属蚀刻液储液罐。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下的技术方案:

一种金属蚀刻液储液罐,其中,包括:

罐体,所述罐体顶部设置有开口;

斜坡结构,设置于所述罐体内并位于所述开口下方;

储液部,位于所述斜坡结构下方并与所述斜坡结构联通;

出液口,设置于所述储液部底部;

管道,连接所述储液部和所述斜坡结构上方的罐壁或者罐顶;

泵,作用于所述管道,可控制的使所述储液部的液体流向所述斜坡结构上方;

所述斜坡结构上设置有台阶。

本实用新型的另一方面,所述斜坡结构包括复数个相互交错的斜坡。

本实用新型的另一方面,所述罐体包括开启结构,所述斜坡结构处于所述开启结构内。

本实用新型的另一方面,所述泵为隔膜泵。

本实用新型的另一方面,所述罐体表面位于所述储液部的区段设置有用以观察所述罐体内部的视窗。

通过对本实用新型技术方案的实施,可以获得以下技术效果:

1,通过斜坡结构上的台阶可在金属蚀刻液进入罐体时将其中的析出颗粒物留在台阶上;

2,通过将储液部的金属蚀刻液通过管道在此泵送到斜坡结构上方,可使经过一段静置时间的金属蚀刻液再次通过斜坡结构,去除在金属蚀刻液静置期间可能析出的颗粒物。

附图说明

图1为本实用新型的金属蚀刻液储液罐的结构示意图;

图2为本实用新型的金属蚀刻液储液罐的开启结构的结构示意图。

具体实施方式

以下通过具体的实施例对本实用新型的技术方案进行说明,在与本实用新型的实用新型目的无冲突的前提下,下文中提到的实施例以及实施例中的技术特征可以相互组合。

如图1和图2所示,本实用新型提供一种金属蚀刻液储液罐,其中,包括:

罐体1,罐体1顶部设置有开口2,开口2用于向罐体1中添加金属蚀刻液;

斜坡结构3,设置于罐体1内并位于开口2下方,当金属蚀刻液从开口2中进入罐体1时首先要经过斜坡结构3;

储液部4,位于斜坡结构3下方并与斜坡结构3联通,金属蚀刻液通过斜坡结构3后即进入储液部4;

出液口5,设置于储液部4的底部,用于排出罐体1中的金属蚀刻液;

管道6,连接储液部4和斜坡结构3上方的罐壁或者罐顶;

泵7,作用于管道6,可控制的使储液部4中的金属蚀刻液流向斜坡结构3的上方;

斜坡结构3上设置有台阶31。

上述技术方案中,金属蚀刻液经过斜坡结构是通过斜坡结构3上的台阶31使金属蚀刻液中析出的颗粒物留在台阶31上,为进一步的增加截留析出颗粒物的效果,可在台阶31边缘设置凸起,或者进一步的在台阶31上设置凹槽。

本实用新型的一种实施例中,斜坡结构3可包括复数个相互交错的斜坡,复数个相互交错的斜坡可更好的截留金属蚀刻液中析出的颗粒物。

本实用新型的一种实施例中,罐体1包括开启结构10,斜坡结构3处于开启结构10内。通过开启结构10可打开罐体1,以便清理斜坡结构3上残留的颗粒物,为配合开启结构工作管道6可采用金属软管。

本实用新型的一种实施例中,泵7可采用隔膜泵,隔膜泵通过使用特殊材质的泵膜可耐腐蚀。

本实用新型的一种实施例中,罐体1表面位于储液部4的区段可设置用以观察罐体1内部的视窗(未于图中示出),通过设置视窗可便于观察罐体1内部尤其是储液部4的金属蚀刻液余量。

上述的实施例仅是本实用新型的部分体现,并不能涵盖本实用新型的全部,在上述实施例以及附图的基础上,本领域技术人员在不付出创造性劳动的前提下可获得更多的实施方式,因此这些不付出创造性劳动的前提下获得的实施方式均应包含在本实用新型的保护范围内。

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