[实用新型]一种湿法刻蚀机及其刻蚀槽

说明书

技术领域

本实用新型涉及光伏技术领域，特别是涉及一种湿法刻蚀机及其刻蚀槽。

背景技术

光伏组件利用玻璃板、背板和EVA封装电池片，电池片由硅片制成，是光伏组件的核心部件。

硅片由硅锭切割而成，然后经过表面制绒、扩散制结、刻蚀、沉积减反射膜、印刷烧结等工艺制成电池片。其中，刻蚀是电池片制造过程中的一个重要工序，目的是去除硅片下表面及四个侧面的PN结，以达到上下表面绝缘的目的，同时去除下表面及四个侧面的磷硅玻璃层。

常用的刻蚀方法是湿法刻蚀，通过化学试剂腐蚀掉硅片下表面及四个侧面的PN结及磷硅玻璃层。请参考图1和图2，图1为一种典型的湿法刻蚀机的结构示意图，图2为图1中所述的湿法刻蚀机中刻蚀槽的具体结构示意图。

刻蚀槽1与清洗槽2相邻，两者上方分别设有盖板3和盖板4，刻蚀槽1下方设有储液罐5，储液罐5与刻蚀槽1之间设有注液管道6和用于药液回流的回流管道7，储液罐5内设有热交换器9，热交换器9可以使储液罐5中的药液降温至设定的温度。清洗槽2的下方设有储水罐10，储水罐10与清洗槽2之间设有用于注水的注水管道11和用于回流的回水管道12。

如图2所示，刻蚀槽1内均匀分布多根滚轮101，各滚轮101相互平行，硅片在滚轮101上通过刻蚀槽1，通过时硅片背面接触药液，实现刻蚀，然后进入清洗槽2清洗。刻蚀槽1通常分为三部分，中间为工艺槽102，两端为溢流槽103，工艺槽102底部设有注液管道6，溢流槽103底部分别设有回流管道7。

刻蚀过程中，需要工艺槽102内始终注满药液。药液通过注液管道6源源不断的注入工艺槽102，随着工艺槽102内液位的上升，药液溢流到两边的溢流槽103内，并通过溢流槽103底部的回流管道7流回储液罐5，保障了工艺槽102内不断有新鲜的药液补入，同时维持了工艺槽102内液位的高度。

刻蚀过程中使用的药液的挥发性较强，整个过程中，工艺槽102内始终注满药液，药液挥发较多，浪费的药液较多。目前，一种节省药液的方式是，将药液的浓度调节至最低临界点，这样虽然可以节省部分药液，但是随着工艺的进行，药液的浓度会逐渐降低，满足不了工艺需求，会出现因药液浓度较低引起的不合格产品。

因此，如何在不改变药液浓度的情况下节省药液，是本领域技术人员目前急需解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种湿法刻蚀机的刻蚀槽，该刻蚀槽能够在不改变药液浓度的情况下节省药液。本实用新型的另一个目的是提供一种具有上述刻蚀槽的湿法刻蚀机。

为了实现上述技术目的，本实用新型提供了一种湿法刻蚀机的刻蚀槽，包括工艺槽和溢流槽，所述工艺槽底部设有注液管道，所述溢流槽底部设有回流管道；所述刻蚀槽内分布多根滚轮，各所述滚轮平行；所述工艺槽的数量为至少两个，各所述工艺槽之间设置至少一个所述溢流槽，所述刻蚀槽的两端分别为所述溢流槽。

优选地，各所述工艺槽之间设置一个所述溢流槽。

优选地，所述工艺槽的宽度大于所述溢流槽的宽度。

优选地，各所述工艺槽的宽度相等。

优选地，各所述溢流槽的宽度相等。

本实用新型还提供了一种湿法刻蚀机，包括刻蚀槽和储液罐，所述刻蚀槽和所述储液罐之间设有注液管道和回流管道，所述刻蚀槽为上述任一项所述的刻蚀槽。

本实用新型提供的湿法刻蚀机的刻蚀槽，包括工艺槽和溢流槽，工艺槽底部设有注液管道，溢流槽底部设有回流管道；刻蚀槽内分布多根滚轮，各滚轮平行；工艺槽的数量为至少两个，各工艺槽之间设置至少一个溢流槽，刻蚀槽的两端分别为溢流槽。

每个工艺槽两端均设有溢流槽，刻蚀过程中，药液通过注液管道源源不断的注入工艺槽，注满后药液溢流到两端的溢流槽，通过回流管道回流。硅片在滚轮上通过刻蚀槽时，将交替的通过溢流槽和工艺槽，硅片经过工艺槽时，硅片接触药液进行刻蚀反应；硅片脱离工艺槽经过溢流槽时，硅片上会沾有部分药液，能够继续与所沾的药液反应，然后硅片将经过下一个工艺槽，重复上述过程。硅片通过刻蚀槽时，一直不间断的与药液反应，不会影响刻蚀的产品质量。刻蚀槽内的工艺槽与溢流槽间隔分布，与现有技术相比，减少了需要注满药液的体积，需要的药液较少，同时也减少了药液的挥发。该刻蚀槽可以在不改变药液浓度，不影响产品质量的前提下，降低药液的消耗，提高药液的利用率，从而降低产品的成本。

本实用新型还提供了一种湿法刻蚀机，具有上述刻蚀槽，由于刻蚀槽具有上述技术效果，故该湿法刻蚀机也具有相应的技术效果。

附图说明