[实用新型]一种用于压紧ito靶材的新型压紧装置有效

专利信息
申请号: 201420714864.5 申请日: 2014-11-25
公开(公告)号: CN204251693U 公开(公告)日: 2015-04-08
发明(设计)人: 蔡家伟 申请(专利权)人: 重庆鼎祥钢结构工程有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 401220 重*** 国省代码: 重庆;85
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 用于 压紧 ito 新型 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种磁控溅射工艺中用于压紧ito靶材的装置,具体涉及一种可有效防止溅射过程中产生导电碎屑导致短路的用于压紧ito靶材的新型压紧装置。

背景技术

ito靶材就是氧化铟和氧化锡粉末按一定比例混合后经过一系列的生产工艺加工成型,再高温气氛烧结(1600度,通氧气烧结)形成的黑灰色陶瓷半导体。ito靶材用于生产ito薄膜,ito薄膜是利用ito靶材作为原材料,通过磁控溅射把ito靶气化溅渡到玻璃基板或柔性有机薄膜上形成的薄膜,ito薄膜具有导电性和透光性,厚度一般30纳米-200纳米。

在磁控溅射工艺中,需要压紧装置将ito靶材压紧固定,其中常用的压紧ito靶材的装置为条状压紧体。

如图1所示,传统用于压紧ito靶材的条状压紧体1的外表面(安装后位于外侧且与绝缘底座5相对的表面)与安装后靠近ito靶材的侧面之间设有过渡的斜面3(也称为倒角),条状压紧体1上设有用于安装的螺孔2。如图2和图3所示,安装时,使用螺杆6将条状压紧体1锁紧在绝缘底座5上,利用条状压紧体1压紧固定住ito靶材7。ito靶材7为阴极,与阳极4之间通过绝缘底座5隔开。条状压紧体1一般采用不锈钢材料,其斜面3与ito靶材7的侧面之间形成台阶8。

如图3所示,在使用过程中,条状压紧体1会受到一定程度的溅射,溅射的物质在ito靶材7与斜面3之间的台阶8对应的空隙内沉积形成膜层,当膜层增长到一定厚度,由于震动、重力等作用,膜层脱落掉到ito靶材7(阴极)与阳极4之间形成导电碎片9,导电碎片9中含有铁、镍等磁性材料成分,在阴极磁场的作用下可能会竖立起来,使ito靶材7(阴极)与阳极4之间接触导致短路,从而导致溅射系统不能正常工作。

实用新型内容

本实用新型的目的就在于为了解决上述问题而提供一种可有效防止磁控溅射过程中产生导电碎屑导致短路的用于压紧ito靶材的新型压紧装置。

本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的:

一种用于压紧ito靶材的新型压紧装置,包括安装于绝缘底座上的条状压紧本体,所述条状压紧本体上设有多个用于与所述绝缘底座连接的螺孔,设所述条状压紧本体上安装后位于外侧且与所述绝缘底座相对的表面为外表面,设所述条状压紧本体上安装后靠近所述ito靶材的侧面为第一侧面,所述条状压紧本体的外表面与第一侧面之间直接连接且为直角。

进一步,所述条状压紧本体在安装后其外表面与所述ito靶材齐平,这样能进一步避免导电碎片的形成。

本实用新型的有益效果在于:

本实用新型将传统用于压紧ito靶材的条状压紧体的斜面去掉,改为直角,形成本新型压紧装置的条状压紧本体,从而消除了条状压紧本体与ito靶材之间的台阶,可有效防止在磁控溅射过程中产生导电碎屑导致短路,溅射系统在ito靶材的使用寿命周期内一直能稳定工作。

附图说明

图1是传统条状压紧体的立体图;

图2是将传统条状压紧体安装于绝缘底座后的剖视结构示意图;

图3是图2中右侧结构的局部放大图;

图4是本实用新型所述用于压紧ito靶材的新型压紧装置的立体图;

图5是将本实用新型所述用于压紧ito靶材的新型压紧装置安装于绝缘底座后的局部放大图,与图3的视角和部位区域一致。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步说明:

如图4和图5所示,本实用新型所述用于压紧ito靶材7的新型压紧装置,包括安装于绝缘底座5上的条状压紧本体10,条状压紧本体10上设有多个用于与绝缘底座5连接的螺孔11,设条状压紧本体10上安装后位于外侧且与绝缘底座5相对的表面为外表面12,设条状压紧本体10上安装后靠近ito靶材7的侧面为第一侧面13,条状压紧本体10的外表面12与第一侧面13之间直接连接且为直角,条状压紧本体10在安装后其外表面12与ito靶材7齐平。说明:上述直角是相对概念,从使用安全性角度来说,该直角也可以是微弧形角,如采用小于1mm×1mm的小倒角,这样不会在使用过程中割伤皮肤,不过这是为了使用安全而采用的常规结构,不对本实用新型的创新设计构成影响。

如图4和图5所示,使用时,将螺杆6穿过条状压紧本体10的螺孔11再旋紧于绝缘底座5上,条状压紧本体10压紧ito靶材7的边部实现ito靶材7的安装。图5中的其它未说明部件与图3中是相同的,见前述背景技术内容。

对比图3和图5可知,条状压紧本体10与ito靶材7之间台阶没有了,可有效防止在磁控溅射靶材过程中产生导电碎屑导致短路,溅射系统在ito靶材7的使用寿命周期内一直能稳定工作。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于重庆鼎祥钢结构工程有限公司,未经重庆鼎祥钢结构工程有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201420714864.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top