[发明专利]用于柔性印刷元件的热处理装置有效
申请号: | 201480043955.3 | 申请日: | 2014-08-11 |
公开(公告)号: | CN105452006B | 公开(公告)日: | 2017-10-31 |
发明(设计)人: | T·戈奇克 | 申请(专利权)人: | 麦克德米德印刷方案股份有限公司 |
主分类号: | B41N1/00 | 分类号: | B41N1/00 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙)11216 | 代理人: | 刘淼 |
地址: | 美国康*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 柔性 印刷 元件 热处理 装置 | ||
技术领域
本发明概括而言涉及一种用于柔性印刷元件的热处理装置以及使用该装置的方法。
背景技术
柔版印刷是一种通常用于大量运转的印刷方法。柔版印刷被用来在不同种类的基板,例如纸张、造纸原料、瓦楞纸板、薄膜、箔纸及层压板上进行印刷。报纸和杂物袋是突出的例子。粗糙表面和拉伸薄膜仅能通过柔版印刷的方式进行经济地印刷。柔性印刷板为在开阔区域上具有突起的图像元件的凸纹板。此类板可为印刷工提供许多优点,主要是基于其耐用性及其易于制作。
制造商所提供的典型的柔性印刷坯版是一种多层式的物品,其是依序由背衬层或支撑层、一层或多层的未曝光(未固化)的光聚合物、保护层或滑膜、以及盖片所制成。
一层或多层未曝光的光聚合物层可包括任何一种已知的光聚合物、单体、引发剂、反应性或非反应性的稀释剂、填料和染料。本文中使用的术语“光可固化”表示一种固体组合物,其受到光化辐射时会进行聚合、交联或任何其它固化或硬化反应,其结果是该材料未曝光的部分可以从曝光(固化)部分有选择地分离出来并且移除,从而形成固化材料的三维或凸纹图案。优选的光可固化材料包括弹性化合物、具有至少一个乙烯基端基的烯键式不饱和化合物以及光引发剂。示例性的光可固化材料公开于Goss等人的欧洲专利申请第0456336A2号和第0640878A1号、英国专利第1,366,769号、Berrier等人的美国专利第5,223,375号、MacLahan的美国专利第3,867,153号、Allen的美国专利第4,264,705号、Chen等人的美国专利第4,323,636号、第4,323,637号、第4,369,246号以及第4,423,135号、Holden等人的美国专利第3,265,765号、Heinz等人的美国专利第4,320,188号、Gruetzmacher等人的美国专利第4,427,759号、Min的美国专利第4,622,088号、Bohm等人的美国专利第5,135,827号,上述专利的每一篇的主题皆通过引用而完全并入本申请。如果使用第二光可固化层,即覆盖层,其通常位于第一层上且组成相似。
光聚合物材料通常在至少某些光化辐射波长范围内进行交联(固化)和硬化。如本文中使用的,光化辐射是能够在曝露区域产生化学变化的辐射。光化辐射包括,例如,强化(例如激光)和非强化光,特别是在UV和红外线波长范围内。优选的光化辐射波长范围为约250nm~450nm,更优选为约300nm~400nm。一种适合的光化辐射源为UV灯,虽然其它辐射源通常也是本领域技术人员众所周知的。
虽然光聚合物印刷元件通常以“平坦”薄片形式使用,但以连续圆柱形式(如连续环形(continuous in-the-round)(CITR)光聚合物套筒)使用该印刷元件则具有特别的应用及优点。CITR套筒可应用在例如壁纸、装饰及礼品包装纸等的连续图案的印刷中。典型的CITR光聚合物套筒通常包括套筒载体(支撑层)和至少一层位于支撑层上的未曝光的光可固化层。
柔性版印刷元件由光聚合物印刷坯版,通过使该光聚合物的印刷坯版成像,以在该印刷元件的表面上产生凸纹图像来制造。通常可通过有选择地将该光可固化材料曝露于光化辐射而实现,该曝光作用用于使光可固化材料在被辐射区域变硬或交联。然后将未曝露于光化辐射的区域在下一步中进行移除。
印刷元件通过几种相关的方法之一而有选择地曝露于光化辐射。在第一种可选方法中,使用具有透光区域和实质上不透光区域的照相负片来有选择地阻断光化辐射至该印刷版元件的传送。在第二种可选方法中,在未曝光的光聚合物层上涂布对激光烧蚀敏感的光化辐射(实质上)不透明层。然后,使用激光来烧蚀该光化辐射不透明层的选定区域,以产生原位负片。该技术是本领域公知的,并且描述于例如Fan的美国第5,262,275号和第6,238,837号专利,以及Yang等人的美国第5,925,500号专利中,这些专利的主题全文均以引用方式并入本文。在第三种可选方法中,使用光化辐射的聚焦光束来有选择地曝光该光聚合物。这些可选方法中的任一种都可接受,条件是只要其能有选择地使该光聚合物曝露于光化辐射,从而有选择地固化光聚合物的一部分即可。
任何传统的光化辐射源都可使用于此曝光步骤。适合的可见光及UV光源的例子包含碳弧、汞蒸气弧、荧光灯、电子闪光单元、电子束单元及照相泛光灯。在此仅为举例而非限制。
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