[发明专利]一种新型带台阶的粉末冶金分体中模有效
申请号: | 201510047751.3 | 申请日: | 2015-01-30 |
公开(公告)号: | CN104625074B | 公开(公告)日: | 2017-04-05 |
发明(设计)人: | 霍东成 | 申请(专利权)人: | 苏州莱特复合材料有限公司 |
主分类号: | B22F3/24 | 分类号: | B22F3/24 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司32200 | 代理人: | 曹毅 |
地址: | 215000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 台阶 粉末冶金 分体 | ||
技术领域
本发明属于整形粉末冶金产品领域,具体涉及一种新型带台阶的粉末冶金分体中模。
背景技术
现有粉末冶金整形中模一般为直筒结构,但对于具有多台阶粉末冶金制品的整形,需要特制整形专机,受制于目前的整形机制造技术及成本,一般是在模具结构上进行部分解决。目前整体式台阶中模集中出现的问题,就是在台阶处应力集中,模具容易崩损,另外整形时由于液压油的存在,整形压力不能很大。
中模为整体结构时,随着生产寿命的增加,当中模部分磨损时,中模需整体更换,寿命比较低。
发明内容
本发明采取分体中模设计方案,消除中模台阶处的应力集中,卸掉整形油部分油压,防止整形压力过大时台阶损坏;模具结合处为清角,保护产品边缘不会整出圆角;另外当模具部分磨损时,可以针对磨损部分进行更换。
为实现上述技术目的,达到上述技术效果,本发明通过以下技术方案实现:
一种新型带台阶的粉末冶金分体中模,包括中模,所述中模为分体结构且包括上部模件和下部模件,所述上部模件上下表面分别设有容腔和台阶,在此容腔内设有通槽,所述下部模件上表面为台阶结构,在此台阶结构中部设有卡槽,下部模件的台阶与上部模件的容腔以同轴间隙配合卡接在一起,在上部模件的通槽内卡接有微肩中心模件,在下部模件的台阶卡槽内卡接有无肩中心模件,所述微肩中心模件和无肩中心模件的平面接触部分设有多个微小油槽用以泄压。
进一步的,所述微肩中心模件与无肩中心模件连接处为锋边。
进一步的,所述微肩中心模件和无肩中心模件平面接触部分设有两个微小油槽,同时上部模件和下部模件的卡接面由内向外设有间隙,保证微小油槽内外连通。
进一步的,所述微小油槽避开微肩中心模件和无肩中心模件平面接触部分的整形有效面。
进一步的,所述上部模件的容腔和通槽由内圆磨磨出,粗糙度在Ra0.1以内,所述下部模件的台阶卡槽由内圆磨磨出,粗糙度在Ra0.1以内。
进一步的,所述上部模件和下部模件均设有螺纹孔,用于拆装及更换。
本发明的有益效果是:
1、采用本发明的整形中模,可有效预防中模台阶处的应力集中,避免裂纹的产生,可以提高整形的压力并明显提高模具的使用寿命。
2、可以很方便的更换模具容易磨损的部分,提高了模具的使用寿命,降低了成本。
附图说明
图1为本发明的结构侧剖视图;
图2为为本发明的结构俯视图(局部)。
图中标号说明:1、下部模件,2、无肩中心模件,3、微肩中心模件,4、上部模件。
具体实施方式
下面将参考附图并结合实施例,来详细说明本发明。
参照图1和图2所示,一种新型带台阶的粉末冶金分体中模,包括中模,所述中模为分体结构且包括上部模件4和下部模件1,在本实施例中,上部模件4和下部模件1均采用45#钢热套,所述上部模件4上下表面分别设有容腔和台阶,在此容腔内设有通槽,所述下部模件1上表面为台阶结构,在此台阶结构中部设有卡槽,下部模件1的台阶与上部模件4的容腔以Φ80H/h5同轴间隙配合卡接在一起,在上部模件4的通槽内卡接有微肩中心模件3,在下部模件1的台阶卡槽内卡接有无肩中心模件2,微肩中心模件3和无肩中心模件2为硬质合金模芯,微肩中心模件3底部为锋边过渡,避免圆角,微肩中心模件3和无肩中心模件2之间保持0.005mm垂直度和同轴度,保证配合精度,在本实施例图1中标出了各配合面之间的公差配合和粗糙度尺寸,微肩中心模件3和无肩中心模件2的平面接触部分设有多个微小油槽用以泄压。
所述微肩中心模件3与无肩中心模件2连接处为锋边。
所述微肩中心模件3和无肩中心模件2平面接触部分设有两个微小油槽,同时上部模件4和下部模件1的卡接面由内向外设有0.5mm间隙,保证微小油槽内外连通。
所述微小油槽避开微肩中心模件3和无肩中心模件2平面接触部分的整形有效面。
所述上部模件4的容腔和通槽由内圆磨磨出,粗糙度在Ra0.1以内,所述下部模件1的台阶卡槽由内圆磨磨出,粗糙度在Ra0.1以内。
所述上部模件4和下部模件1均设有两个M6的螺纹孔,用于拆装及更换。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
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