[发明专利]紫外线照射装置以及具有该紫外线照射装置的分析装置

权利要求书

1.一种紫外线照射装置，其是在碱性氛围中被使用的紫外线照射装置，其特征在于，包括：

发光管，所述发光管由石英材料形成的，从内部发出紫外光；

第1保护膜，所述第1保护膜由耐紫外线性以及耐碱性高的材料形成，其被成膜于所述发光管的外表面，避免所述发光管受到碱性氛围的影响；以及

第2保护膜，所述第2保护膜形成于所述第1保护膜的外表面，由与所述第1保护膜不同的疏水性高的材料构成，

所述第1保护膜的耐紫外线性比所述第2保护膜高，所述第2保护膜的耐碱性比所述第1保护膜高。

2.如权利要求1所述的紫外线照射装置，其特征在于，

所述第1保护膜由包含类金刚石碳的材料形成。

3.如权利要求1所述的紫外线照射装置，其特征在于，

所述第1保护膜由包含无机金属或者无机金属化合物的材料形成。

4.如权利要求1所述的紫外线照射装置，其特征在于，

所述第2保护膜由包含树脂的材料形成。

5.如权利要求1～3中任一项所述的紫外线照射装置，其特征在于，

所述第1保护膜由包含树脂的材料形成。

6.一种分析装置，其特征在于，包括：

权利要求1～5中任一项所述的紫外线照射装置；

蓄积有水样的反应槽；以及

对在所述反应槽内被氧化的水样的成分进行测定的测定部，

所述发光管被浸渍在所述反应槽内的水样中。

7.如权利要求6所述的分析装置，其特征在于，

所述第1保护膜被形成在与所述反应槽内的水样的水位相对应的位置。