[发明专利]一种喷雾干燥塔在审

专利信息
申请号: 201510152304.4 申请日: 2015-03-31
公开(公告)号: CN104771919A 公开(公告)日: 2015-07-15
发明(设计)人: 林亮银 申请(专利权)人: 佛山市三水宏源陶瓷企业有限公司
主分类号: B01D1/18 分类号: B01D1/18;B01D1/30;B01D53/79;B01D53/74;B01D53/56
代理公司: 佛山东平知识产权事务所(普通合伙) 44307 代理人: 詹仲国
地址: 528131 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 喷雾 干燥塔
【说明书】:

技术领域

发明涉及工业废气处理技术领域,尤其涉及一种喷雾干燥塔。

背景技术

喷雾干燥塔是陶瓷生产工艺中必要的设备质疑,用来制备精细、含水率稳定的陶瓷粉料,它的性能直接影响的粉料的产量和质量,也关系到陶瓷生产中的能耗及环保。

氮氧化合物(NOX)是造成大气污染的重要污染物质之一。随着环保意识的逐渐增强,陶瓷生产工业对污染物的排放量也提出了明确要求,即,排放量不大于240mg/Nm3。为降低陶瓷工业尾气中氮氧化物含量,目前一个常用的做法是在尾气中增加脱硝装置,利用SCR(选择性催化还原)技术将尾气中的氮氧化物还原。通过增加脱硝装置虽能有效减少氮氧化物的排放,但存在设备投资高,NH3刺激性大,易泄漏造成二次污染等问题。

发明内容

针对现有技术中存在的问题,本发明的目的在于提供的一种带脱硝装置的喷雾干燥塔,通过在陶瓷造粒时加入脱硝剂,以降低陶瓷工业尾气中氮氧化合物的含量。

为达到以上目的,本发明采用如下技术方案。

一种喷雾干燥塔,包括:塔体,设置在塔体底部的出料口,及与塔体连接的供热风装置、供浆雾化装置和排风装置,其特征在于,它还包括有脱硝装置;所述脱硝装置包括:脱硝剂储存装置,与脱硝剂储存装置连接的脱硝剂稀释装置,与脱硝剂稀释装置连接的脱硝剂计量装置,及与脱硝剂计量装置连接的混合器;所述混合器与供浆雾化装置连接。

作为改进地,在混合器上连接有稀释剂供应装置。

作为改进地,所述塔体从上到下依次分为低温区、中温区和高温区,所述供浆雾化装置的喷雾口设置在低温区。

作为改进地,所述供浆雾化装置包括连在一起的液体室和雾化室,在雾化室上连接有气压感应机械连锁装置。

作为改进地,实际工作时,塔体内高温区的温度控制在750-1150℃之间。

作为改进地,所述脱硝剂包括:带NHX基的还原剂,醇类化合物,醛类化合物,酯类化合物和胺类化合物。

作为改进地,所述带NHX基的还原剂为NH3,尿素,碳酸铵,硫酸铵,氯化铵中的一种或几种。

作为改进地,所述胺类化合物为双氰胺,羟胺,三聚氰胺中的一种或几种。

经实验测试,利用本发明提供的喷雾干燥塔进行制粉工艺时,尾气中氮氧化物的含量低于240mg/Nm3,满足《陶瓷工业污染物排放标准》的规定。且通过对比实验表明,本发明通过在喷雾干燥塔上连接脱硝装置,有效降低制粉时烟气中氮氧化物含量,总体脱硝效率大于50%。

附图说明

图1所示为本发明提供的喷雾干燥塔结构示意图;

图2所示为脱硝装置结构框图。

具体实施方式

为方便本领域普通技术人员更好地理解本发明的实质,下面结合附图对本发明的具体实施方式进行详细阐述。

如图1-图2所示,一种喷雾干燥塔,包括:塔体1,设置在塔体底部的出料口2,及与塔体1连接的供热风装置3、供浆雾化装置4,排风装置5和脱硝装置6,所述脱硝装置6通过供浆雾化装置4与塔体1连通。

其中,所述脱硝装置6包括:脱硝剂储存装置61,与脱硝剂储存装置61连接的脱硝剂稀释装置62,与脱硝剂稀释装置62连接的脱硝剂计量装置63,及与脱硝剂计量装置63连接的混合器64;所述混合器与供浆雾化装置连接。在混合器64上连接有稀释剂供应装置65。

所述塔体1从上到下依次分为低温区、中温区和高温区,所述供浆雾化装置的喷雾口设置在低温区。实际工作时,脱硝剂和浆料一起喷入到塔体1内,并在高温区(750-1150℃)发生燃烧反应。经实验测试,利用本实施例提供的喷雾干燥塔进行制粉工艺时,尾气中氮氧化物的含量低于240mg/Nm3,满足《陶瓷工业污染物排放标准》的规定。且通过在喷雾干燥塔上连接脱硝装置,有效降低制粉时烟气中氮氧化物含量。

特别地,所述脱硝剂由带NHX基的还原剂,醇类化合物,醛类化合物,酯类化合物和胺类化合物复合而成。与传统的氨气或尿素类脱硝剂相比,本实施例提供的复合脱硝剂能使喷雾干燥塔的脱硝率在0-90%之间任意调节,且不对燃料产生影响,并避免的氨气逃逸现象。本实施例中,优选脱硝剂由碳酸铵,硫酸铵,氯化铵,双氰胺,乙醇,甲醛,羟胺,三聚氰胺复合而成。

以上具体实施方式对本发明的实质进行了详细说明,但并不能以此来对本发明的保护范围进行限制。显而易见地,在本发明实质的启示下,本技术领域普通技术人员还可进行许多改进和修饰,需要注意的是,这些改进和修饰都落在本发明的权利要求保护范围之内。

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