[发明专利]无掩模光刻设备的同步脉冲曝光方法和数字激光直写系统

权利要求书

1.一种无掩模光刻设备的同步脉冲曝光方法，所述的无掩模光刻设备采用由UV激光或UV LED光源、DMD微反射镜器件和光学透镜组成的曝光成像系统，其特征在于：产生系列的脉冲同步信号，触发所述DMD微反射镜器件与所述UV激光或UV LED光源同步工作，所述脉冲同步信号的脉冲间隔取决于DMD微反射镜器件对图形的更换或刷新周期；具体为，当DMD微反射镜器件打开新一幅曝光图，UV激光或UV LED光源同步开启；当DMD微反射镜器件更换或刷新曝光图的过程中关闭UV激光或UV LED光源。

2.根据权利要求1所述的无掩模光刻设备的同步脉冲曝光方法，其特征在于：所述的脉冲同步信号还用于控制无掩模光刻设备的机台系统，所述机台系统带引曝光板运动，其根据图形曝光要求调整曝光板的位置。

3.根据权利要求2所述的无掩模光刻设备的同步脉冲曝光方法，其特征在于：所述机台系统的位置调整于所述脉冲间隔内完成。

4.根据权利要求1-3任意一项所述的无掩模光刻设备的同步脉冲曝光方法，其特征在于：所述脉冲同步信号系由控制曝光成像系统和机台系统的上位机产生。

5.一种数字式激光直写系统，其特征在于：包括

上位机，其运行有直写控制程式，负责向曝光成像系统输出数字点阵图案，以及系列的脉冲同步信号；

一个或多个并排的曝光成像系统，主要系由UV激光或UV LED光源、DMD微反射镜器件和若干光学透镜组成。

6.根据权利要求5所述的数字式激光直写系统，其特征在于：还包括受控于所述上位机的机台系统，所述机台系统带引曝光板运动，以调整曝光板与曝光成像系统之间的位置。

7.根据权利要求6所述的数字式激光直写系统，其特征在于：所述曝光板与曝光成像系统之间的位置调整包括X轴调整、Y轴调整和Z轴调整。

8.根据权利要求7所述的数字式激光直写系统，其特征在于：所述机台系统包括带引曝光成像系统沿X轴移动的第一机构，带引曝光成像系统沿Y轴移动的第二机构，以及带引曝光成像系统沿Z轴移动的第三机构。

9.根据权利要求8所述的数字式激光直写系统，其特征在于：所述第三机构的位移量由一设置朝向所述曝光板的位移传感器产生的信号控制。

10.根据权利要求5-9任意一项所述的数字式激光直写系统，其特征在于：所述上位机上运行有图形格式转换程式，实现矢量图向数字点阵图的转换功能。