[发明专利]吡啶衍生物6-甲氧基-6′-[(6-甲氧基吡啶-2-基)甲基]-2,2′-吡啶及其合成方法在审

专利信息
申请号: 201510316445.5 申请日: 2015-06-10
公开(公告)号: CN104860877A 公开(公告)日: 2015-08-26
发明(设计)人: 石靖;胡博文;陈大发 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: C07D213/64 分类号: C07D213/64
代理公司: 哈尔滨龙科专利代理有限公司 23206 代理人: 高媛
地址: 150000 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要:
搜索关键词: 吡啶 衍生物 甲氧基 甲基 及其 合成 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种吡啶类衍生物及其合成方法,具体涉及一种新型吡啶化合物6-甲氧基-6′-[(6-甲氧基吡啶-2-基)甲基]-2,2′-吡啶及其合成方法。

背景技术

配位聚合物是由有机配体与金属离子通过自组装形成的具有周期性无限网络结构的金属有机骨架晶态材料,其已成为当今化学、材料等领域研究中的热点课题之一。而吡啶类配体因其具有较强的配位能力,可与多种金属离子络合,故已引起了众多国内外学者的广泛关注。

吡啶环上的N原子不但能够与金属离子配位而且还能够形成氢键,另外吡啶类配体通过配位键、氢键及芳香环上的π-π堆积作用使吡啶类配体和金属离子合成许多具有结构新颖性质优越的配位聚合物,这些配位聚合物具有特定的官能团在催化剂分子识别、光电材料、非线性光学材料和分子磁性材料等方面均具有较为广泛的应用前景。

发明内容

本发明的目的是提供一种吡啶衍生物6-甲氧基-6′-[(6-甲氧基吡啶-2-基)甲基]-2,2′-吡啶及其合成方法。该方法合成了一种不对称的吡啶化合物,并在吡啶2-号和6-号位引入了甲氧基,方便官能团之间的转换,以便合成含有羟基取代基团的联吡啶类衍生物,从而合成催化性能增加的金属有机配合物。

本发明的目的是通过以下技术方案实现的:

一种吡啶衍生物6-甲氧基-6′-[(6-甲氧基吡啶-2-基)甲基]-2,2′-吡啶,其分子结构式如下:

上述吡啶衍生物6-甲氧基-6′-[(6-甲氧基吡啶-2-基)甲基]-2,2′-吡啶的合成方法,具体步骤如下:

向三口瓶中加入4.4mmol(6′-甲氧基-[2,2′-联吡啶]-6-基)(6-甲氧基吡啶-2基)甲酮、2g氢氧化钠、30mL水合肼(80%),加入30mL乙二醇作为溶剂,100℃搅拌4h;加水和氢氧化钠溶液调碱性(pH=9),水层用乙酸乙酯或二氯甲烷萃取二~四次;合并有机层,有机层用无水硫酸钠或氯化钙干燥1~3小时后,将有机溶剂旋干,过一段氧化铝的柱子,以石油醚∶乙酸乙酯=4∶1(v/v)为洗脱液,得到黄色液体。反应方程式如下:

本发明中,所述(6′-甲氧基-[2,2′-联吡啶]-6-基)(6-甲氧基吡啶-2基)甲酮按照以下方法获得:

在N2保护下,向三口瓶中加入11mmol 2-溴-6-甲氧基吡啶,加入60mL四氢呋喃作为溶剂,-78℃滴加4.4mL、2.5mol/L正丁基锂,低温(-78℃)搅拌60min,体系溶液由无色渐变淡黄色,将11mmol 6-甲氧基-2,2′-联吡啶-2-甲酸乙酯溶于20mL四氢呋喃,-78℃慢慢滴加到反应中,慢慢升温至-20℃反应3h;加甲醇、盐酸和水的混合液(甲醇∶盐酸∶水=5∶1∶5(v/v/v))淬灭反应,氢氧化钠溶液调碱性(pH=9),分液,水层用乙酸乙酯或二氯甲烷萃取二~四次;合并有机层,有机层用无水硫酸钠或氯化钙干燥1~3小时后,将有机溶剂旋干,过一段氧化铝的柱子,以石油醚∶乙酸乙酯=4∶1(v/v)为洗脱液,得到白色固体,熔点90-93℃。反应方程式如下:

本发明具有如下优点:

(1)反应操作简单,一步即可得到一种新型的、未见报道的非对称吡啶化合物。

(2)化合物中甲氧基基团的引入使得羟基官能团的合成更加简单易得。

附图说明

图1为本发明合成的(6′-甲氧基-[2,2′-联吡啶]-6-基)(6-甲氧基吡啶-2基)甲酮的核磁氢谱共振图谱;

图2为本发明合成的(6′-甲氧基-[2,2′-联吡啶]-6-基)(6-甲氧基吡啶-2基)甲酮的核磁碳谱共振图谱;

图3为本发明合成的(6′-甲氧基-[2,2′-联吡啶]-6-基)(6-甲氧基吡啶-2基)甲酮的高分辨质谱图谱;

图4为本发明合成的6-甲氧基-6′-[(6-甲氧基吡啶-2-基)甲基]-2,2′-吡啶的核磁氢谱共振图谱;

图5为本发明合成的6-甲氧基-6′-[(6-甲氧基吡啶-2-基)甲基]-2,2′-吡啶的核磁碳谱共振图谱;

图6为本发明合成的6-甲氧基-6′-[(6-甲氧基吡啶-2-基)甲基]-2,2′-吡啶的高分辨质谱图谱。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的技术方案作进一步的说明,但并不局限于此,凡是对本发明技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本发明技术方案的精神和范围,均应涵盖在本发明的保护范围中。

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