[发明专利]一种石墨烯-氮化硼-氮化镓LED芯片及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201510322480.8 申请日: 2015-06-13
公开(公告)号: CN104966771A 公开(公告)日: 2015-10-07
发明(设计)人: 邱彩玉;丁雯;张新娟;徐一梦 申请(专利权)人: 温州生物材料与工程研究所
主分类号: H01L33/26 分类号: H01L33/26;H01L33/00
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 韩介梅
地址: 325011 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 石墨 氮化 led 芯片 及其 制作方法
【权利要求书】:

1. 一种石墨烯-氮化硼-氮化镓LED芯片,其特征在于,在衬底(1)上自下而上依次有氮化镓层(2)、氮化硼层(3)和石墨烯层(4),所述的LED芯片还包括第一电极(5)和第二电极(6),第一电极(5)设置在氮化镓层(2)上,第二电极(6)设置在石墨烯层(4)上。

2. 根据权利要求1所述的石墨烯-氮化硼-氮化镓LED芯片,其特征在于,所述的衬底(1)为氮化镓、碳化硅、蓝宝石或者氧化锌。

3. 根据权利要求1所述的石墨烯-氮化硼-氮化镓LED芯片,其特征在于,所述的氮化硼层(3)为单层或多层的氮化硼,其厚度为0.4nm-500nm。

4. 根据权利要求1所述的石墨烯-氮化硼-氮化镓LED芯片,其特征在于,所述的石墨烯层(4)中石墨烯为1-20层。

5. 根据权利要求1所述的石墨烯-氮化硼-氮化镓LED芯片,其特征在于,所述的第一电极为金、银、铜、镍、铬、钛、钯和铝中的一种或者几种的复合电极;所述的第二电极为金、银、铜、镍、铬、钛、钯和铝中的一种或者几种的复合电极。

6.一种如权利要求1所述的石墨烯-氮化硼-氮化镓LED芯片的制作方法,其特征在于,包含以下步骤:

1)在洁净的衬底表面采用MOCVD或MBE法沉积氮化镓层;

2)在氮化镓层上转移氮化硼层,并预留生长第一电极的面积; 

3)在氮化硼层上转移石墨烯层;

4)在石墨烯层上制作第二电极,并在氮化镓层的预留面积处制作第一电极。

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