[实用新型]一种气相沉积膜设备用抽气陶瓷环有效

专利信息
申请号: 201520328483.8 申请日: 2015-05-20
公开(公告)号: CN204752844U 公开(公告)日: 2015-11-11
发明(设计)人: 柴智;刘亿军;王燚 申请(专利权)人: 沈阳拓荆科技有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C16/44
代理公司: 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 代理人: 李绪岩
地址: 110179 辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 沉积 备用 陶瓷
【说明书】:

技术领域:本实用新型涉及一种抽气设备,尤其是一种一种气相沉积膜设备用抽气陶瓷环。

背景技术:气相沉积膜设备在沉积时控制密封腔室内需保持一定范围的压力,需要通过抽气设备进行抽气,使腔室达到指定负压力值。目前没有专用的设备进行这种操作,普通的抽气装置一般很难控制气体均匀的抽出。

实用新型内容:针对上述现有技术的不足,本实用新型提供了一种一种气相沉积膜设备用抽气陶瓷环。

为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种气相沉积膜设备用抽气陶瓷环,包括环形的陶瓷环,在陶瓷环上均布抽气小孔,抽气小孔的内壁为圆角。

优选的,所述的抽气小孔为12至48个圆形的抽气小孔,小孔直径范围由1毫米至12毫米。

优选的,所述的抽气小孔设置在陶瓷环的中间或上端或下端。

本实用新型可针对不同沉积反应的真空要求可匹配不同的小孔数量及小孔孔径的陶瓷环,且保证抽气泵抽气时,腔室内部向外部抽气的气流均匀稳定。另外腔室内通入高能量离子时,可避免聚集高能量而产生局部燃烧现象。

附图说明:

图1是本实用新型实施例1的结构示意图。

图2是抽气小孔处的局部放大图。

图3是实施例2的结构示意图

图4是实施例3的结构示意图。

具体实施方式:

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清晰、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

如图1和图2所示:一种气相沉积膜设备用抽气陶瓷环,包括环形的陶瓷环1,在陶瓷环1上均布抽气小孔2,抽气小孔2的内壁为圆角。抽气小孔设置在陶瓷环的中间。薄膜沉积过程中,此陶瓷环与腔室上盖及衬底承载台组合围成一个相对独立的孔间。陶瓷环外侧与抽气泵抽气管路相连,抽气泵工作时产生负压,通过陶瓷环上圆周的小孔将空间内的气体均匀的抽出,使腔室达到指定负压力值。

薄膜沉积过程中,当腔室内通入高能量离子时,陶瓷环内侧的圆角可避免聚集高能量而产生局部燃烧现象。

实施例2

如图3所示:抽气小孔设置在陶瓷环的上端。

实施例3

如图4所示:抽气小孔设置在陶瓷环的下端。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳拓荆科技有限公司,未经沈阳拓荆科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201520328483.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top