[实用新型]一种反应釜高压水剂射流清洗装置有效

专利信息
申请号: 201520511657.4 申请日: 2015-07-15
公开(公告)号: CN204912217U 公开(公告)日: 2015-12-30
发明(设计)人: 祁正大 申请(专利权)人: 武汉新概念化工有限公司
主分类号: B08B9/093 分类号: B08B9/093
代理公司: 武汉天力专利事务所 42208 代理人: 程祥
地址: 430070 湖北省武汉*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 反应 高压 水剂 射流 清洗 装置
【权利要求书】:

1.一种反应釜高压水剂射流清洗装置,包括高压射流清洗装置本体和PLC程序控制器所联接的调控管线;其特征在于:高压射流清洗装置本体主要由高压清洗机组、设在反应釜内的三维旋转喷头伸缩机构和与三维旋转喷头伸缩机构连接的三维旋转喷头组成;所述的高压清洗机组包括高压泵组、驱动电机和水基清洗液配制储存槽;三维旋转喷头伸缩机构内设有与三维旋转喷头联通的清洗管;清洗液配制储存槽通过管路一与高压泵组连接,高压泵组通过管路二与三维旋转喷头伸缩机构的清洗管连接。

2.根据权利要求1所述的反应釜高压水剂射流清洗装置,其特征在于:清洗液配制储存槽包括槽体和与槽体通过进水阀联通的清洗剂储罐,槽体内设有搅拌器,槽体上设有出液口,出液口上设有出液阀,出液阀与管路一连接。

3.根据权利要求2所述的反应釜高压水剂射流清洗装置,其特征在于:所述三维旋转喷头伸缩机构包括连接在反应釜上的底座、与底座活动连接的伸缩杆和伸缩调控器。

4.根据权利要求1所述的反应釜高压水剂射流清洗装置,其特征在于:所述的三维旋转喷头上设有二个喷咀。

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