[实用新型]微型晶圆处理设备

权利要求书

1.一种微型晶圆处理设备，是针对一晶圆进行处理，其特征在于该微型晶圆处理设备包含有：

一第一半部，包含有一工作平台、一设置于该工作平台的第一孔洞；

一设置于该第一半部上方的第二半部，包含有一对应盖合于该工作平台以形成一容置该晶圆的处理腔室的上盖、一设置于该上盖的第二孔洞以及一连接于该上盖的升降件；

一与该第一孔洞、该第二孔洞连通并提供一气体至该处理腔室的气体供应单元；

一与该第一孔洞、该第二孔洞连通并提供一液体至该处理腔室的液体供应单元；

一设置于该第一半部与该第二半部的一周缘的环型密封件；以及

一液体回收件，该液体回收件包含有贯穿该环型密封件并与该处理腔室连通的一回收管路、一排出管路以及一连通该回收管路、该排出管路的过滤部。

2.根据权利要求1所述的微型晶圆处理设备，其特征在于还包含有一设置于该环型密封件上的排气孔。

3.根据权利要求1所述的微型晶圆处理设备，其特征在于该第一半部还包含有一设置于该工作平台的升降旋转件。

4.根据权利要求1所述的微型晶圆处理设备，其特征在于还包含有一与该第一孔洞连通的抽真空单元。

5.根据权利要求4所述的微型晶圆处理设备，其特征在于还包含有一电性连接于该气体供应单元、该液体供应单元以及该抽真空单元的控制单元。

6.根据权利要求1所述的微型晶圆处理设备，其特征在于还包含有一设置于该第一半部与该环型密封件外的排放件，该排放件具有一供该气体与该液体排放的排放空间，以及一与该排放空间连通的排放口。

7.根据权利要求6所述的微型晶圆处理设备，其特征在于还包含有一与该排放口连通的负压装置。