[发明专利]用于处理基板的设备

权利要求书

1.一种用液体(4)处理基板(14)的设备(24,24a-d)，其特征在于：

-输送装置(26)，借助该输送装置基板(14)可沿输送方向(18)被输送通过容纳液体(4)的容器(28)；

-挡板(30，40，52，58，64，70)，它具有边缘(32，44，54，60，74)，该边缘(32，44，54，60，74)能够被所述基板(14)经过，该边缘(32，44，54，60，74)的至少一段相对于所述基板(14)的输送方向(18)倾斜。

2.根据权利要求1所述的设备(24a)，其特征在于：

边缘(44)在至少两条输送道(36)上延伸并且在该至少两条输送道(36)之间具有不一致的边缘轮廓(42)。

3.根据前述权利要求之一所述的设备(24b)，其特征在于：

边缘(54)在至少两条输送道(36)上延伸并且在该至少两条输送道(36)之间具有一致的边缘轮廓(56)。

4.根据前述权利要求之一所述的设备(24c)，其特征在于：边缘(60)具有在每个点处均可求导的边缘轮廓(62)。

5.根据前述权利要求中任一项所述的设备(24a)，其特征在于：边缘(44)在至少一条输送道(36)内具有不一致的边缘轮廓(42)。

6.根据前述权利要求中任一项所述的装置(24c)，其特征在于：

边缘(60)的至少一段包括圆滑的、优选是正弦曲线的边缘轮廓(62)。

7.根据前述权利要求中任一项所述的设备(24a-c)，其特征在于：

其中边缘(44,54,60)在超过两条输送道的范围上延伸，且优选地在至少三条输送道的范围上延伸，并且特别优选地在所有输送道的范围上延伸。

8.根据前述权利要求中任一项所述的设备(24,24a-d)，其特征在于：

在所述挡板(30,40,52,58,64,70)的前面和后面设置有输送辊(34)，借助输送辊(34)所述基底(14)被输送通过容纳所述液体(4)的容器(28)。

9.根据权利要求8所述的设备(24,24a-d)，其特征在于：边缘(32,44,54,60,74)在一个间隔距离的至少50％且优选地至少75％且特别优选地至少95％的范围上延伸，该间隔距离是从沿着输送方向(18)在挡板(30,40,52,58,64,70)前方的最后一个输送辊(34)沿输送方向到布置在挡板(30,40,52,58,64,70)后方的第一输送辊的距离。

10.根据权利要求8至9中任一项所述的设备(24d)，其特征在于至少一个输送辊(34)的旋转轴(66)穿过挡板(64)。

11.一种用于用液体(4)处理基板(14)的设备(24,24a-d)中的挡板(30,40,52,58,64,70)，其特征在于挡板的边缘(32,44,54,60,74)的至少一部分是倾斜延伸的。

12.根据权利要求11所述的挡板(40,52,58,70)，其特征在于边缘(44,54,60,74)具有至少一个突出部(46)或至少一个凹部，优选地是一个突出部(46)。

13.根据权利要求11或12所述的挡板(40,70)，其特征在于边缘(44,47)的至少一部分具有锯齿形轮廓(50)。

14.根据权利要求11至13中任一项所述的挡板(70)，其特征在于边缘(74)具有不平坦的、优选波纹状的高度轮廓(76)。

15.根据权利要求11至14中任一项所述的挡板

(30,40,52,58,64,70)，其特征在于挡板(30,40,52,58,64,70)被整体地制成，优选地通过从一个坯体(72)的材料去除而被制成。

16.根据权利要求11至15中任一项所述的挡板(64)，其特征在于用于接收旋转轴(66)的至少一个开口(68)。

17.根据权利要求11至16中任一项所述的挡板(30,40,52,58,64,70)在根据权利要求1至10中任一项所述的设备(24,24a-d)中的用途。