[发明专利]OLED显示屏及其光学补偿层的制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及OLED显示技术领域，特别是涉及一种OLED显示屏及其光学补偿层的制作方法。

背景技术

OLED是下一代新型显示技术和照明技术，应用前景巨大。

在AMOLED显示屏的像素结构中，每个子像素都依次包括阳极层、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层以及阴极层。为简单起见，OLED器件结构如图3给出。根据顶发光或底发光的要求，可以使用电子传输层(ETL)或空穴传输层(HTL)或空穴注入层(HIL)作为光学补偿层，用来调节微腔效应、提高器件效率。定义红色子像素的光学补偿层的厚度为Rh、绿色子像素的光学补偿层的厚度Gh、蓝色子像素的光学补偿层的厚度为Bh。

一般地，要求Rh>Gh>Bh。

传统的已经量产的中小尺寸AMOLED采用“红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素依次相邻”(RGB side by side)的蒸镀技术。以下结构以顶发光的AMOLED显示屏为例进行说明，假设采用空穴传输层(HTL)作为光学补偿层。参考图1，为了给这种像素排列结构蒸镀光学补偿层，通常是采用如下的方法。

首先，采用共通金属掩膜板(Common Metal Mask，CMM)蒸镀厚度为a+c的第一层光学补偿层材料。该第一层光学补偿层材料同时覆盖红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。

接着，采用精细金属掩膜板(Fine Metal Mask，FMM)蒸镀厚度为b的第二层光学补偿层材料。该第二层光学补偿层材料仅覆盖红色子像素。

最后，采用精细金属掩膜板(Fine Metal Mask，FMM)蒸镀厚度为b-a的第三层光学补偿层材料。该第三层光学补偿层材料仅覆盖绿色子像素。

上述方法形成的光学补偿层中：红色子像素的发光材料层上覆盖的厚度为a+b+c、绿色子像素的发光材料层上覆盖的厚度为b+c、蓝色子像素的发光材料 层上覆盖的厚度为a+c。这里要求b>a。这样就满足了上述Rh>Gh>Bh的要求。

可以看到，在上述方法的后两个步骤中，每一次蒸镀都是采用精细金属掩膜板对一个子像素进行蒸镀。那么精细金属掩膜板的开孔大小就是与子像素的蒸镀面积大小相同。当需要为更高分辨率的显示屏制作光学补偿层时，精细金属掩膜板的开孔就更小。

然而，随着精细金属掩膜板开孔的变小，其对有机材料浪费率越来越大，不利于AMOLED显示屏成本的降低。

发明内容

基于此，有必要提供一种OLED显示屏的光学补偿层的制作方法，其能够提高材料利用率。

此外，也提供一种OLED显示屏的制作方法。

一种OLED显示屏的光学补偿层的制作方法，用于以下像素结构：每个像素单元中的绿色子像素和蓝色子像素均与红色子像素相邻；所述方法包括如下步骤：

采用共通金属掩膜板蒸镀厚度为c的第一层光学补偿层材料；所述第一层光学补偿层材料同时覆盖红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素的发光区域；

采用精细金属掩膜板蒸镀厚度为b的第二层光学补偿层材料；所述第二层光学补偿层材料同时覆盖红色子像素和绿色子像素的发光区域；

采用精细金属掩膜板蒸镀厚度为a的第三层光学补偿层材料；所述第三层光学补偿层材料同时覆盖红色子像素和蓝色子像素的发光区域；

其中，蒸镀第一层光学补偿层材料、第二层光学补偿层材料以及第三层光学补偿层材料的顺序为任意顺序。

在其中一个实施例中，每个像素单元中的绿色子像素、红色子像素、蓝色子像素均为条形，且依次并列排列。

在其中一个实施例中，每个像素单元中的绿色子像素、红色子像素、蓝色子像素均为块状，且绿色子像素和红色子像素在第一方向上并列排列、红色子像素和蓝色子像素在第二方向上并列排列。所述第一方向和第二方向垂直。

在其中一个实施例中，当蒸镀第二层光学补偿层材料先于蒸镀第三层光学补偿层材料时，b>a；当蒸镀第三层光学补偿层材料先于蒸镀第二层光学补偿层材料时，a>b。

一种OLED显示屏的光学补偿层的制作方法，用于以下像素结构：每个像素单元中的绿色子像素、红色子像素、蓝色子像素均为条形，且依次并列排列；相邻像素单元的同色子像素相邻；所述方法包括如下步骤：

采用共通金属掩膜板蒸镀厚度为c的第一层光学补偿层材料；所述第一层光学补偿层材料同时覆盖每个像素单元中的红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素的发光区域；