[发明专利]一种宽温域低收缩隔离膜及其制备方法和用途

权利要求书

1.一种电化学装置隔离膜，其特征在于，所述隔离膜的闭孔温度和破膜温度的温差为80-90℃；热收缩率不高于2.0％；

所述隔离膜的原料组成中含有熔点在150℃以上的含氟聚合物A和/或分子主链含有苯环的聚合物B，以及分子量为1.0×10⁶-10.0×10⁶的超高分子量聚乙烯、密度为0.940-0.976g/cm³范围内的高密度聚乙烯、抗氧化剂、助交联剂和成孔剂；

所述熔点在150℃以上的含氟聚合物A选自下述的一种或两种以上：聚四氟乙烯，聚氟乙烯，聚偏氟乙烯，乙烯-四氟乙烯共聚物，丙烯-四氟乙烯共聚物，氟化乙烯丙烯共聚物，偏氟乙烯六氟丙烯共聚物和偏氟乙烯四氟乙烯六氟丙烯三元共聚物；

所述分子主链含有苯环的聚合物B选自下述的一种或两种以上：聚对苯二甲酰对苯二胺，聚芳醚砜，聚芳砜，聚醚砜，聚芳硫醚砜，聚醚醚酮，聚醚酮，聚醚酮酮，聚醚醚酮酮，聚醚酮醚酮酮，聚苯醚，聚苯硫醚，聚芳酯，聚苯酯，半芳香族或芳香族聚酰亚胺，半芳香族或芳香族聚酰胺，聚醚酰亚胺和聚酰胺酰亚胺。

2.如权利要求1所述的隔离膜，其特征在于，所述隔离膜的闭孔温度和破膜温度的温差为85-90℃。

3.如权利要求1所述的隔离膜，其特征在于，所述隔离膜的原料按所述超高分子量聚乙烯和高密度聚乙烯的重量为100份计，含有1-50重量份熔点在150℃以上的含氟聚合物A；和/或1-50重量份分子主链含有苯环的聚合物B。

4.如权利要求1所述的隔离膜，其特征在于，所述隔离膜的原料组成为：

(a)分子量为1.0×10⁶-10.0×10⁶的超高分子量聚乙烯和密度为0.940-0.976g/cm³范围内的高密度聚乙烯的混合物，所述超高分子量聚乙烯和高密度聚乙烯的重量比为1:1-20；

(b)按所述超高分子量聚乙烯和高密度聚乙烯的重量为100份计，1-50 重量份熔点在150℃以上的含氟聚合物A；和/或(c)按所述超高分子量聚乙烯和高密度聚乙烯的重量为100份计，1-50重量份分子主链含有苯环的聚合物B；

(d)按所述超高分子量聚乙烯和高密度聚乙烯的重量为100份计，500-2000重量份的成孔剂；

(e)按所述超高分子量聚乙烯和高密度聚乙烯的重量为100份计，0.5-20份抗氧化剂；和

(f)按所述超高分子量聚乙烯和高密度聚乙烯的重量为100份计，0.1-10份助交联剂。

5.如权利要求4所述的隔离膜，其特征在于，所述超高分子量聚乙烯和高密度聚乙烯的重量比为1:2-10。

6.如权利要求4所述的隔离膜，其特征在于，所述超高分子量聚乙烯和高密度聚乙烯的重量比为1:5-10。

7.一种如权利要求1-6任一项所述的隔离膜的制备方法，其特征在于，所述方法包括步骤：

(1)将熔点在150℃以上的含氟聚合物A和/或分子主链含有苯环的聚合物B，以及分子量为1.0×10⁶-10.0×10⁶的超高分子量聚乙烯、密度为0.940-0.976g/cm³范围内的高密度聚乙烯、抗氧化剂、助交联剂和成孔剂混合形成混合物；

(2)将混合物通过挤出机挤出成带状物；

(3)带状物经有机溶剂萃取、通过拉伸机拉伸成薄膜后进行辐照交联，得到如权利要求1-6 任一项所述的隔离膜；

所述熔点在150℃以上的含氟聚合物A选自下述的一种或两种以上：聚四氟乙烯，聚氟乙烯，聚偏氟乙烯，乙烯-四氟乙烯共聚物，丙烯-四氟乙烯共聚物，氟化乙烯丙烯共聚物，偏氟乙烯六氟丙烯共聚物和偏氟乙烯四氟乙烯六氟丙烯三元共聚物；

所述分子主链含有苯环的聚合物B选自下述的一种或两种以上：聚对苯二甲酰对苯二胺，聚芳醚砜，聚芳砜，聚醚砜，聚芳硫醚砜，聚醚醚酮，聚醚酮，聚醚酮酮，聚醚醚酮酮，聚醚酮醚酮酮，聚苯醚，聚苯硫醚，聚芳酯，聚苯酯，半芳香族或芳香族聚酰亚胺，半芳香族或芳香族聚酰胺，聚醚酰亚胺和聚酰胺酰亚胺。