[发明专利]成像质量分析数据处理方法以及成像质量分析装置

权利要求书

1.一种成像质量分析数据处理方法，对成像质量分析数据进行处理，该成像质量分析数据是将通过对试样上的多个测量点分别执行质量分析而收集到的质谱数据与上述测量点的空间位置信息相关联而得到的，该成像质量分析数据处理方法的特征在于，包括以下步骤：

空间校正处理步骤，将多个成像质量分析数据中的一个成像质量分析数据的空间上的测量点间隔作为基准，通过使用位于使其它成像质量分析数据的测量点间隔与该基准一致时的虚拟的测量点位置周围的多个测量点的质谱数据进行内插或者外插，来求出各个虚拟的测量点位置处的质谱数据；以及

整合步骤，进行整合，使得能够将通过执行上述空间校正处理步骤从而使测量点间隔一致的多个成像质量分析数据作为一个成像质量分析数据进行处理。

2.根据权利要求1所述的成像质量分析数据处理方法，其特征在于，所处理的成像质量分析数据的质量电荷比点一致。

3.一种成像质量分析数据处理方法，对成像质量分析数据进行处理，该成像质量分析数据是将通过对试样上的多个测量点分别执行质量分析而收集到的质谱数据与上述测量点的空间位置信息相关联而得到的，该成像质量分析数据处理方法的特征在于，包括以下步骤：

空间校正处理步骤，将多个成像质量分析数据中的一个成像质量分析数据的空间上的测量点间隔作为基准，通过将其它成像质量分析数据的测量点间隔放大或者缩小来使其与该基准一致；以及

整合步骤，进行整合，使得能够将通过执行上述空间校正处理步骤从而使测量点间隔一致的多个成像质量分析数据作为一个成像质量分析数据进行处理。

4.根据权利要求3所述的成像质量分析数据处理方法，其特征在于，所处理的成像质量分析数据的质量电荷比点一致。

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的成像质量分析数据处理方法，其特征在于，还包括以下步骤：

谱制作步骤，基于通过上述整合步骤整合后的成像质量分析数据，来计算所指定的或者特定的多个测量点的质谱的运算质谱，该运算质谱是累计质谱、平均质谱或者最大强度质谱；

峰值矩阵制作步骤，对上述运算质谱进行峰值检测并制作峰值的质量电荷比值的列表，根据各测量点的质谱数据求出与上述列表中的质量电荷比对应的强度值，制作根据质量电荷比值排列该强度值而得到的峰值矩阵；以及

统计解析步骤，对上述峰值矩阵执行统计解析。

6.根据权利要求5所述的成像质量分析数据处理方法，其特征在于，还包括以下步骤：

图像制作步骤，在该步骤中，基于通过上述整合步骤整合后的成像质量分析数据，制作表示与所指定的或者特定的质量电荷比对应的未被标准化的强度值的二维分布的成像图像，或者制作表示与所指定的或者特定的质量电荷比范围对应的未被标准化的强度值的二维分布的成像图像。

7.根据权利要求6所述的成像质量分析数据处理方法，其特征在于，

还包括标准化系数制作步骤，在该步骤中按每个测量点计算标准化系数并事先存储其结果，该标准化系数用于按照规定的基准将各测量点的质谱数据的强度值标准化，

在上述图像制作步骤中，使用上述标准化系数将成像图像的各测量点的强度值标准化，并制作标准化后的成像图像。

8.根据权利要求5所述的成像质量分析数据处理方法，其特征在于，

还包括标准化系数制作步骤，在该步骤中按每个测量点计算标准化系数并事先存储其结果，该标准化系数用于按照规定的基准将各测量点的质谱数据的强度值标准化，

在上述谱制作步骤中，基于通过上述整合步骤整合后的成像质量分析数据，使用上述标准化系数将所指定的或者特定的多个测量点的质谱标准化，根据标准化后的质谱来计算累计质谱、平均质谱以及最大强度质谱中的至少一个。