[发明专利]基于金属镜的多光谱滤波器阵列

权利要求书

1.一种光学装置，包括：

设置在基底上的多光谱滤波器阵列，所述基底包括传感器元件组，

所述多光谱滤波器阵列包括：

设置在所述基底上的第一金属镜，

设置在所述第一金属镜上的间隔件，

所述间隔件包括第一间隔件层和第二间隔件层，

所述第一间隔件层设置在所述第一金属镜上，以及

一个或多个滤波器层，其设置在所述多光谱滤波器阵列上以过滤引导至所述传感器元件组的光，

其中，所述第二间隔件层被沉积为包封所述第一间隔件层与相应的光学传感器元件对齐的部分以及所述第一金属镜和所述第一间隔件层的边缘。

2.如权利要求1所述的装置，其中，所述第一金属镜具有在所述传感器元件组上方的均匀的厚度。

3.如权利要求1所述的装置，

其中，所述第一间隔件层对应于与所述传感器元件组对齐的光学通道组中的第一通道，并且与第一厚度相关联，以及

其中，所述第二间隔件层对应于所述光学通道组中的第二通道，并且与第二厚度相关联，所述第二厚度不同于所述第一厚度，

所述第一间隔件层覆盖所述传感器元件组中的第一数量的传感器元件。

4.如权利要求1所述的装置，其中，所述第一金属镜包括以下中的至少一个：

银(Ag)基镜，

铝(Al)基镜，或

铜(Cu)基镜。

5.如权利要求1所述的装置，其中，所述间隔件包括以下中的至少一种：

非晶态硅基材料，

氢化非晶态硅(Si:H)基材料，

锗(Ge)基材料，

氧化铌(Nb₂O₅)基材料，

氧化钛(TiO₂)基材料，

氧化钽(Ta₂O₅)基材料，

氧化硅(SiO₂)基材料，

氧化钇(Y₂O₃)基材料，

氧化锆(ZrO₂)基材料，

氧化铝(Al₂O₃)基材料，

氮化硅(Si₃N₄)基材料。

6.如权利要求1所述的装置，其中，所述多光谱滤波器阵列的一层或多层是沉积层，所述沉积层使用脉冲磁控溅射工艺而被沉积到所述基底上。

7.如权利要求1所述的装置，其中，所述传感器元件组还包括以下中的至少一个：

光电二极管阵列，

电荷耦合器件(CCD)，或

互补金属氧化物半导体(CMOS)。

8.如权利要求1所述的装置，其中，所述多光谱滤波器阵列还包括夹有所述第一金属镜的第一组氧化锌(Zn)保护层。

9.如权利要求1所述的装置，其中，

所述一个或多个滤波器层包括以下中的至少一个：

带外阻挡层组，

抗反射涂层组，或

高阶抑制层组。

10.如权利要求1所述的装置，进一步包括：

设置在所述多光谱滤波器阵列上的透镜组，

所述透镜组中的一特定的透镜与经由所述多光谱滤波器阵列的通道而朝向所述传感器元件组中的一特定的光学传感器引导光相关联。

11.如权利要求1所述的装置，其中，所述传感器元件组被嵌入到所述基底中。

12.如权利要求1所述的装置，其中，所述传感器元件组是传感器阵列中的多个光学传感器。

13.如权利要求1所述的装置，其中，所述传感器元件组与从光源接收一部分光相关联。