[发明专利]基于金属镜的多光谱滤波器阵列有效
申请号: | 201611245976.0 | 申请日: | 2016-12-29 |
公开(公告)号: | CN107037520B | 公开(公告)日: | 2022-11-25 |
发明(设计)人: | G.J.奥肯富斯 | 申请(专利权)人: | 唯亚威通讯技术有限公司 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;G01J3/28;G01J3/02 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 张瑞;杨明钊 |
地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 金属 光谱 滤波器 阵列 | ||
装置可包括设置在基底上的多光谱滤波器阵列。多光谱滤波器阵列可包括设置在基底上的第一金属镜。多光谱滤波器可包括设置在第一金属镜上的间隔件。间隔件可包括层组。间隔件可包括设置在间隔件上的第二金属镜。第二金属镜可与传感器元件组中的两个或更多个传感器元件对齐。
技术领域
本发明涉及多光谱滤波器阵列,更具体地涉及基于金属镜的多光谱滤波器阵列。
背景技术
可采用多光谱传感器装置来捕捉信息。例如,多光谱传感器装置可以捕捉涉及一组电磁频率的信息。该多光谱传感器装置可以包括捕捉信息的传感器元件组(例如,光学传感器、光谱传感器、和/或图像传感器)。例如,可以采用传感器元件组来捕捉涉及多个频率的信息。传感器元件中的一个特定的传感器元件可以与一个滤波器相关联,该滤波器限制朝向该特定传感器元件引导的频率范围。
发明内容
根据一些可能的实施方式,装置可以包括设置在基底上的多光谱滤波器阵列。该多光谱滤波器阵列可包括设置在基底上的第一金属镜。该多光谱滤波器阵列可包括设置在第一金属镜上的间隔件。间隔件可包括层组。间隔件可包括设置在间隔件上的第二金属镜。第二金属镜可与传感器元件组中的两个或更多个传感器元件对齐。
根据一些可能的实施方式,光学滤波器可包括第一层。第一层可以是第一镜,以反射朝向所述第一层引导的一部分光。第一层可沉积在与传感器元件组相关联的基底上。光学滤波器可包括第二层组。第二层组可仅沉积在第一层上。第二层组可与对应于传感器元件组的通道组相关联。通道组中的通道可与一特定的厚度相关联,该特定的厚度与朝向传感器元件组中的一特定传感器元件引导的光的特定波长相对应。光学滤波器可包括第三层。第三层可以是第二金属镜,以反射朝向所述第三层引导的一部分光。第三层可沉积在与所述第二层组相关联的所述传感器元件组中的多个上。
根据一些可能的实施方式,系统可包括嵌入在基底中的光学传感器组。系统可以包括沉积在基底上的多光谱滤波器阵列。多光谱滤波器阵列可包括:第一银(Ag)金属镜、第二银(Ag)金属镜、以及设置在所述第一银(Ag)金属镜和所述第二银(Ag)金属镜之间的多个间隔件层。
附图说明
图1是文中描述的示例性实施方式的概略图;
图2是用于制造具有多光谱滤波器阵列的传感器装置的示例性工艺的示图;
图3A-3C是涉及示于图2的示意性工艺的示例性实施方式的示图;
图4A-4C是涉及示于图2的示意性工艺的另一示例性实施方式的示图;
图5A和5B是涉及示于图2的示意性工艺的另一示例性实施方式的示图;
图6A-6E是涉及示于图2的示意性工艺的另一示例性实施方式的示图;
图7A和7B是涉及示于图2的示意性工艺的另一示例性实施方式的示图;
图8A和8B是涉及示于图2的示意性工艺的另一示例性实施方式的示图;
图9是涉及示于图2的示意性工艺的示例性示图;
图10A和10B是涉及示于图2的示意性工艺的示例性示图。
具体实施方式
下文中对示例性实施方式的详细的描述参考附图。在不同附图中的相同的附图标记可以指示相同或类似的元件。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于唯亚威通讯技术有限公司,未经唯亚威通讯技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611245976.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:半导体晶片的处理工艺
- 下一篇:提高氧化镓材料导热性的方法