[实用新型]一种金属材料抛光装置有效

专利信息
申请号: 201620028560.2 申请日: 2016-01-14
公开(公告)号: CN205290662U 公开(公告)日: 2016-06-08
发明(设计)人: 焦玉凤 申请(专利权)人: 佳木斯大学
主分类号: B24B37/34 分类号: B24B37/34;B24B9/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 154007 黑*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要:
搜索关键词: 一种 金属材料 抛光 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型属于抛光设备领域,具体涉及一种金属材料抛光装置。

背景技术

金属抛光装置也称为研磨机,常常用作机械式研磨、抛光及打蜡。其工作 原理是:电动机带动安装在抛光机上的海绵或羊毛抛光盘高速旋转,由于抛光 盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦,进而可达到去除漆面污染、氧化 层、浅痕的目的。抛光盘的转速一般在1500-3000r/min,多为无级变速,施工 时可根据需要随时调整。按抛光盘与抛光机的连接方式可分为以下三种:螺栓 盘:适用于带有螺栓接头的抛光机。螺母盘:适用于带有螺母接头的抛光机。 吸盘:适用于带有吸盘的抛光机。即抛光机的机头用螺钉固定有一个硬质塑料 聚酯底盘(又称托盘),底盘的工作面可粘住带有尼龙易粘平面的物体,这样就 可以根据需要选择各种吸盘式的抛光盘,只需将此种抛光盘贴在底盘上即可, 使用起来极为方便。抛光机操作的关键是要设法得到最大的抛光速率,以便尽 快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响最终观察到的组 织,即不会造成假组织。前者要求使用较粗的磨料,以保证有较大的抛光速率 来去除磨光的损伤层,但抛光损伤层也较深;后者要求使用最细的材料,使抛 光损伤层较浅,但抛光速率低。但现今大多数金属抛光装置发热量严重,抛光 效率低。

实用新型内容

本实用新型的目的就在于为了解决上述问题而提供一种金属材料抛光装 置。

本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的:

一种金属材料抛光装置,包括底座、内压机、轴套和大轴,所述底座上方 设置有散热片,所述散热片上方安装有薄金属片,所述薄金属片设置在所述散 热片与所述内压机之间,所述内压机上方设置有轴座,所述轴座上方设置有通 风口,所述通风口上方设置有排片,所述排片下方设置有所述轴套,所述轴套 下方设置有摩擦片,所述摩擦片下方设置有隔板,所述大轴上方设置有卡片盘 器,所述卡片盘器与联轴器的中轴线处在同一直线上。

上述结构中,所述排片可以有效提高抛光效率,所述轴套可以有效避免机 械划痕,所述隔板可以避免设备受到机械损伤。

为了进一步提高抛光效率,所述底座与所述散热片连接,所述散热片与所 述薄金属片连接。

为了进一步提高抛光效率,所述内压机与所述轴座使用导线连接,所述通 风口与所述排片使用导线连接。

为了进一步提高抛光效率,所述轴套出口端与所述摩擦片入口端连接,所 述摩擦片与所述隔板连接。

为了进一步提高抛光效率,所述大轴与所述卡片盘器连接,所述卡片盘器 与所述联轴器连接。

有益效果:本实用新型通过砂轮或抛光轮与工件表面摩擦,可以对封头内 外表面及焊缝进行磨削与抛光,从而实现工件表面粗糙度的提高,自动化程度 高,可连续均匀抛光工作。

附图说明

图1是本实用新型所述一种金属材料抛光装置的主视图;

图2是本实用新型所述一种金属材料抛光装置的俯视图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步说明:

如图1-图2所示,一种金属材料抛光装置,包括底座1、内压机4、轴套8 和大轴11,底座1上方设置有散热片2,可以提高散热效率,散热片2上方安 装有薄金属片3,增大接触面积,薄金属片3设置在散热片2与内压机4之间, 提高散热性,内压机4上方设置有轴座5,减少内能,轴座5上方设置有通风口 6,可以进行通风,通风口6上方设置有排片7,可以快速散热,排片7下方设 置有轴套8,轴套8下方设置有摩擦片9,增大摩擦度,摩擦片9下方设置有隔 板10,大轴11上方设置有卡片盘器12,提高粘合性,卡片盘器12与联轴器13 的中轴线处在同一直线上,提高内部连接性。

上述结构中,排片7可以有效提高抛光效率,轴套8可以有效避免机械划 痕,隔板10可以避免设备受到机械损伤。

为了进一步提高抛光效率,底座1与散热片2连接,提高连接性,散热片2 与薄金属片3连接,内压机4与轴座5使用导线连接,增大摩擦表面积,通风 口6与排片7使用导线连接,轴套8出口端与摩擦片9入口端连接,增大散热 量,摩擦片9与隔板10连接,大轴11与卡片盘器12连接,避免机械磨损,卡 片盘器12与联轴器13连接,可以延长工作时间。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和优点。本行业的技 术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中 描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下, 本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用 新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其效物界定。

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