[实用新型]一种多级沉淀铁水分离池有效

专利信息
申请号: 201621438073.X 申请日: 2016-12-26
公开(公告)号: CN206308208U 公开(公告)日: 2017-07-07
发明(设计)人: 徐长君;陈曙光;刘金刚;李涛 申请(专利权)人: 四川瑞致电工钢有限公司
主分类号: C02F9/12 分类号: C02F9/12
代理公司: 成都华风专利事务所(普通合伙)51223 代理人: 徐丰,刘袁君
地址: 610400 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 多级 沉淀 铁水 分离
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及分离池技术领域,具体而言,涉及一种多级沉淀铁水分离池。

背景技术

传统的铁水分离池通常都是通过过滤网进行过滤分离,如果不定期维护、更换过滤网,长期的排放往往会导致过滤网的网孔堵塞,无法实现过滤,导致排出的铁水漫过分离池,从而造成换进污染。但是定期维护、更换过滤网也增加成本,同时非常麻烦。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种多级沉淀铁水分离池,以解决现有技术的不足。

为实现本实用新型目的,采用的技术方案为:

一种多级沉淀铁水分离池,包括分离池本体,其特征在于,所述分离池本体内设有多个隔板;所述多个隔板将分离池本体分为第一沉淀槽、第二分沉淀槽和第三沉淀槽;所述位于第一沉淀槽与第二分沉淀槽之间的隔板开设有第一出水口;所述位于第二沉淀槽与第三沉淀槽之间的隔板开设有第二出水口;所述第一沉淀槽设有进水口,第三沉淀槽设有第三出水口;所述三个出水口沿流水方向由高到低设置;所述第一沉淀槽在进水口处设有滚筒式磁铁装置,第二沉淀槽在第一出水口的下方设有滚筒式磁铁装置。

进一步地,所述滚筒式磁铁装置包括转轴,且转轴可转动设置;所述转轴上设有滚筒,滚筒上设有叶片;所述滚筒和叶片上均设有磁铁层。

进一步地,所述进水口处设有导流板,且导流板向下倾斜设置。

进一步地,所述第一出水口向下倾斜设置。

本实用新型的有益效果是:

本实用新型三个沉淀槽的出水口沿流水方向由高到低设置,将铁水进行多次沉淀分离,实现铁水中的杂质和铁与水进行有效的分离,分离后的清水可以再次利用。本实用新型在第一沉淀槽和第二沉淀槽内均设有滚筒式磁铁装置,可实现铁和其他杂质的分离,便于铁的回收利用。本实用新型解决了现有的铁水分离池用过滤网进行过滤,需要定期维护、更换过滤网的缺点。

附图说明

图1是本实用新型提供的多级沉淀铁水分离池的结构示意图;

图2是第一沉淀槽的结构示意图。

具体实施方式

下面通过具体的实施例子并结合附图对本实用新型做进一步的详细描述。

图1-2所示出了本实用新型提供的多级沉淀铁水分离池,包括分离池本体1、第二出水口2、第三沉淀槽3、第三出水口4、隔板5、滚筒式磁铁装置6、第一沉淀槽7、第一出水口8、第二沉淀槽9、导流板10、进水口11、滚筒61及叶片62;所述分离池本体1内设有多个隔板5;所述多个隔板5将分离池本体1分为第一沉淀槽7、第二分沉淀槽9和第三沉淀槽3;所述位于第一沉淀槽7与第二分沉淀槽9之间的隔板5开设有第一出水口8;所述位于第二沉淀槽9与第三沉淀槽3之间的隔板5开设有第二出水口2;所述第一沉淀槽7设有进水口11,第三沉淀槽设3有第三出水口4;所述三个出水口沿流水方向由高到低设置;所述第一沉淀槽7在进水口11处设有滚筒式磁铁装置6,第二沉淀槽9在第一出水口8的下方设有滚筒式磁铁装置6;所述滚筒式磁铁装置6包括转轴,且转轴可转动设置;所述转轴上设有滚筒61,滚筒61上设有叶片62;所述滚筒61和叶片62上均设有磁铁层;所述进水口11处设有导流板10,且导流板10向下倾斜设置;所述第一出水口8向下倾斜设置。

工作原理:铁水通过进水口11进入第一沉淀槽7内,由于导流板10向下倾斜设置,使铁水推动叶片62,从而带动滚筒61转动,铁水中的铁吸附在磁铁层上,铁水中的其他杂质向下沉淀;由于流水推动滚筒61转动,使叶片62带动进水口11下方堆积的其他杂质沉淀在第一沉淀槽7的其他区域,避免过多其他杂质堆积在进水口11附近,影响铁水沉淀分离;经过分离的铁水从第一出水口8进入第二沉淀槽9内,通过第二沉淀槽9内的滚筒式磁铁装置6再一次吸收铁水的铁,其他杂质沉淀在第二沉淀槽9内;经过第二次分离后的铁水进入第三沉淀槽3内进行沉淀分离处理,通过第三沉淀槽3沉淀处理后的清水,通过第三出水口4排出。本实用新型将铁水进行多次沉淀分离,实现铁水中的杂质和铁与水进行有效的分离,分离后的清水可以再次利用。本实用新型在第一沉淀槽7和第二沉淀槽9内均设有滚筒式磁铁装置6,可实现铁和其他杂质的分离,便于铁的回收利用。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,对于本领域的技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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