[发明专利]防腐蚀涂膜、其形成方法及用于形成该防腐蚀涂膜的防腐蚀涂料组合物有效
申请号: | 201680009153.X | 申请日: | 2016-02-03 |
公开(公告)号: | CN107429108B | 公开(公告)日: | 2020-07-03 |
发明(设计)人: | 三浦贤治;黑木一博 | 申请(专利权)人: | 昭和电工株式会社 |
主分类号: | C09D163/10 | 分类号: | C09D163/10;B05D7/14;B05D7/24;C09D5/08;C09D7/62;C09D7/61;C23C26/00;C23F11/00 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华;洪秀川 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 腐蚀 形成 方法 用于 涂料 组合 | ||
1.一种防腐蚀涂膜,其为形成在金属表面上的防腐蚀涂膜,该防腐蚀涂膜为防腐蚀涂料组合物的固化物,该防腐蚀涂料组合物含有:
(A)相对于乙烯酯树脂组合物总量,含自由基聚合性不饱和单体20~50质量%及乙烯酯树脂50~80质量%的乙烯酯树脂组合物;
(B)表面经硅烷处理、且平均厚度为0.1~3μm、平均粒径为50~600μm的鳞片状玻璃;及
(C)气相二氧化硅;
相对于形成防腐蚀涂膜的防腐蚀涂料组合物总量,该防腐蚀涂料组合物含有49~84.5质量%的(A)成分、14~49.6质量%的(B)成分及0.5~5质量%的(C)成分,
该防腐蚀涂膜由固化后的涂膜的厚度为500μm以上的单一层形成。
2.根据权利要求1所述的防腐蚀涂膜,其中,所述(A)乙烯酯树脂组合物的乙烯酯树脂为选自酚醛型乙烯酯树脂、双酚型乙烯酯树脂、溴化乙烯酯树脂中的1种或2种以上。
3.根据权利要求1或2所述的防腐蚀涂膜,其中,所述(A)乙烯酯树脂组合物的乙烯酯树脂由选自磷系催化剂、铵系催化剂、有机酸铬盐中的1种或2种以上的催化剂合成。
4.根据权利要求1或2所述的防腐蚀涂膜,其中,所述(C)气相二氧化硅为亲水性气相二氧化硅及/或疏水性气相二氧化硅。
5.根据权利要求1或2所述的防腐蚀涂膜,其中,所述防腐蚀涂料组合物相对于防腐蚀涂料组合物的(A)成分、(B)成分及(C)成分的总量100质量份,进一步含有0.5~3质量份的(D)聚羧酸系摇变剂。
6.根据权利要求1或2所述的防腐蚀涂膜,其中,所述金属表面被实施吹砂处理。
7.一种金属制罐,其在内壁面上具有权利要求1~5中任一项所述的防腐蚀涂膜。
8.一种由500μm以上的单一层形成的防腐蚀涂膜的形成方法,其包括在金属表面上对防腐蚀涂料组合物进行单次涂布及固化,所述防腐蚀涂料组合物含有:
(A)相对于乙烯酯树脂组合物总量,含自由基聚合性不饱和单体20~50质量%及乙烯酯树脂50~80质量%的乙烯酯树脂组合物;(B)表面经硅烷处理、且平均厚度为0.1~3μm的鳞片状玻璃;及(C)气相二氧化硅;
相对于形成防腐蚀涂膜的防腐蚀涂料组合物总量,所述防腐蚀涂料组合物含有49~84.5质量%的(A)成分、14~49.6质量%的(B)成分及0.5~5质量%的(C)成分。
9.根据权利要求8所述的由500μm以上的单一层形成的防腐蚀涂膜的形成方法,其中,所述(A)乙烯酯树脂组合物的乙烯酯树脂为选自酚醛型乙烯酯树脂、双酚型乙烯酯树脂、溴化乙烯酯树脂中的1种或2种以上。
10.根据权利要求8或9所述的由500μm以上的单一层形成的防腐蚀涂膜的形成方法,其中,所述(A)乙烯酯树脂组合物的乙烯酯树脂由选自磷系催化剂、铵系催化剂、有机酸铬盐中的1种或2种以上的催化剂合成。
11.根据权利要求8或9所述的由500μm以上的单一层形成的防腐蚀涂膜的形成方法,其中,所述(C)气相二氧化硅为亲水性气相二氧化硅及/或疏水性气相二氧化硅。
12.根据权利要求8或9所述的由500μm以上的单一层形成的防腐蚀涂膜的形成方法,其中,所述防腐蚀涂料组合物相对于防腐蚀涂料组合物的(A)成分、(B)成分及(C)成分的总量100质量份,进一步含有0.5~3质量份的(D)聚羧酸系摇变剂。
13.根据权利要求8或9所述的由500μm以上的单一层形成的防腐蚀涂膜的形成方法,其中,所述金属表面被实施吹砂处理。
14.一种防腐蚀涂料组合物,其为用于在金属表面上形成由固化后的涂膜厚度为500μm以上的单一层形成的防腐蚀涂膜的防腐蚀涂料组合物,其含有:
(A)相对于乙烯酯树脂组合物总量,含自由基聚合性不饱和单体20~50质量%及乙烯酯树脂50~80质量%的乙烯酯树脂组合物;(B)表面经硅烷处理、且平均厚度为0.1~3μm的鳞片状玻璃:及(C)气相二氧化硅;
相对于形成防腐蚀涂膜的防腐蚀涂料组合物总量,其含有49~84.5质量%的(A)成分、14~49.6质量%的(B)成分及0.5~5质量%的(C)成分。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昭和电工株式会社,未经昭和电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680009153.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。