[发明专利]脱模膜

说明书

本发明提供一种脱模膜，在作为粘接剂用的脱模膜、或用作偏光板用的粘接层的保护膜时，例如，脱模性不会因对粘接层进行加工时所使用的溶剂而变差，适合在各种用途中利用。该脱模膜在聚酯膜的至少单面具有包含硅酮化合物和双子型表面活性剂的涂布层。

技术领域

本发明涉及脱模膜，涉及例如适合于粘接剂用脱模膜、偏光板用 粘接层的保护膜、陶瓷电容器制造工序用脱模膜等的脱模膜。

背景技术

在现有技术中，以聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚萘二甲酸乙二醇酯 为代表的聚酯膜，具有机械强度、尺寸稳定性、平坦性、耐热性、耐 药品性、光学特性等优异的特性，并且性价比优异，因而能够在各种 用途中使用。

作为使用聚酯膜的用途例之一，可以列举粘接剂用脱模膜、偏光 板用粘接层的保护膜、陶瓷电容器制造工序用脱模膜。例如，在粘接 制品中使用聚酯膜的情况下，将粘接剂溶解、分散在各种溶剂中，以 该状态涂覆到脱模膜上，通过加热进行溶剂除去和交联，由此形成粘 接层。之后，将脱模膜剥离，由此发挥其粘接性能。

在这些用途中使用聚酯膜的情况下，需要对于粘接剂等的脱模性。 因此，提出了多种设有由以聚二甲基硅氧烷为代表的硅酮组合物等构 成的脱模层的方案(例如专利文献1)。但是，在利用这些方法时，用 于形成脱模层的涂布剂的溶剂大多使用有机溶剂，存在涂覆或干燥时 的有机溶剂处理设备大规模化的问题。并且，还存在需要顾及对于操 作环境方面或有机溶剂爆发火灾等安全方面的问题。还提出了不使用 有机溶剂的无溶剂型的方法(专利文献2)，但在利用该方法时，涂布 液的粘度增高，存在难以得到均匀的涂膜的问题。

从这样的观点出发，还提出了利用水系的硅酮乳剂的涂布方法(专 利文献3)。但是，此时乳剂的稳定性差，因而难以形成稳定的均匀的 涂膜，引发耐溶剂性等变差的问题。在用于粘接制品时，由于涂布层 接触溶剂，因而涂布层的耐溶剂性至关重要。因此，需要具有耐溶剂 性优异的涂布层的脱模膜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2006－7689号公报

专利文献2：日本特开2003－192987号公报

专利文献3：日本特开平8－118573号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

本发明是鉴于上述实际情况而完成的，其要解决的技术问题在于 提供一种适合于粘接剂用脱模膜、偏光板用粘接层的保护膜、陶瓷电 容器制造工序用脱模膜等、并且耐溶剂性也优异的脱模膜。

用于解决技术问题的手段

鉴于上述实际情况，本发明的发明人进行了深入研究，结果发现 在使用由特定的结构形成的脱模膜时，能够容易地解决上述技术问题， 从而完成了本发明。

即，本发明的要点在于一种叠层的脱模膜，其特征在于，在聚酯 膜的至少单面具有包含硅酮化合物和双子型表面活性剂(Gemini surfactant)的涂布层。

发明效果

根据本发明，能够提供一种脱模膜，该脱模膜在作为粘接剂用脱 模膜或偏光板用粘接层的保护膜使用时，因粘接层加工时的溶剂而引 起的脱模性的恶化少，其工业上的价值高。

具体实施方式

构成本发明的脱模膜的聚酯膜可以为单层结构，也可以为多层结 构，除了可以为2层、3层结构以外，只要不超出本发明的要点，也可 以为4层或4层以上的多层，但并没有特别限定。