[发明专利]一种AG玻璃抛光液及AG玻璃生产工艺

说明书

技术领域

本发明涉及一种玻璃抛光粉，并将该抛光粉应用于AG玻璃的生产。

背景技术

目前流行的蚀刻法AG加工工艺，浮法玻璃基板都是对玻璃的空气面直接进行蚀刻AG工艺或者在蚀刻AG工艺前增加弱酸预处理；该方法加工的AG玻璃满足一般客户要求，但针对高端领域，AG面微光粒子均匀性达不到理想效果。本发明是在该AG生产工艺基础上，增加专业物理抛光工序，对玻璃AG面在蚀刻前进行一次物理抛光处理，使玻璃AG面微观颗粒形貌均匀，从而在AG工序后达到更加均匀的AG效果。

目前市面上流行的AG玻璃，主流工艺是采用腐蚀法制程生产AG玻璃；在玻璃空气面直接经过化学预处理后做蒙砂抛光工序，此工艺制备的AG玻璃表面粒子颗粒度均匀性较差：粒子凹坑直径极差范围为40~60um。实际测试一组数据，如在370mm*470mm大小玻璃面上，做成光泽度为75%的AG玻璃，整版玻璃表面9点测试粒子凹坑直径（RSM)数据如下：78um；89um；125um；90um；98um；126um；89um；96um；129um；9点极差范围在51um。

目前流行的蚀刻法AG加工工艺，浮法玻璃基板都是对玻璃的空气面直接进行蚀刻AG工艺或者在蚀刻AG工艺前增加弱酸预处理；该方法加工的AG玻璃满足一般客户要求，但针对高端领域，AG面微光粒子均匀性达不到理想效果。

发明内容

一种AG玻璃抛光液，包括如下重量份的原料组成：CeO₂占质量比为20-30%，La₂O₃占质量比为15-35%，质量浓度为40%的氢氟酸质量比为20-30%；质量浓度为40%硫酸占质量比为10-20%；质量浓度为75%硝酸占质量比为5-10%。

进一步优选为包括如下重量份的原料组成：CeO₂占质量比为25%，La₂O₃占质量比为20%，质量浓度为40%的氢氟酸质量比为25%；质量浓度为40%硫酸占质量比为17%；质量浓度为75%硝酸占质量比为8%。

所述的AG玻璃抛光液生产AG玻璃的工艺，包括如下步骤：

步骤一：将玻璃按照标示角30-90°将锡面吸附在抛光设备上盘；

步骤二：启动抛光设备，进行抛光，抛光时间为3~6分钟；

步骤三：卸片，清洗刷洗机清洗；

步骤四：对玻璃的非工作面用抗酸油墨做印刷保护，使其在后工序中保证不受任何影响；

步骤五：对玻璃的工作面用药液进行预洗1-5min；药液主要成分为稀释的氢氟酸和硫酸，其中氢氟酸的浓度为2%；硫酸的浓度为1%；氢氟酸与硫酸的质量比2:1；

步骤六：对玻璃工作面在蒙砂设备上，用蒙砂药液进行蒙砂处理50-100s，使玻璃工作面形成大小形状相似的非透明的微观凹坑形貌；

步骤七：对玻璃工作面在化学抛光设备上，用AG玻璃抛光液进行抛光处理20-30min，使玻璃工作面上的非透明微观凹坑形貌处理透亮，达到漫反射效果从而形成AG防炫效果，即可完成AG玻璃的生产。

所述的蒙砂药液成分及质量分数占比分别为：氟化氢铵50%~55%；氟硅酸铵3.5%~4%；淀粉6%~7%；柠檬酸13%~15%；氟化钙1.5%；水20%。将基板玻璃空气面经过特殊物理抛光后，再经过预处理后做蒙砂抛光工序，AG玻璃表面粒子颗粒度均匀性有很大提高，实际测试一组数据，如在370*470大小玻璃面上，做成光泽度为75%的AG玻璃，整版玻璃表面9点测试粒子凹坑直径（RSM)数据如下：88um；95um；92um；89um；94um；92um；94um；95um；92um；9点极差在7um；很大程度上提高了粒子凹坑直接均匀性。

本发明是在现有AG生产工艺基础上，在弱酸预处理前对玻璃基板空气面进行特殊物理抛光，抛光粉粒直径均值约为1.0~1.6um的研磨粉（主要成分为CeO₂，La2O₃稀土材料）。通过精抛光工艺，实现玻璃表面微观粒子形貌均匀，从而在后面AG工序中达到粒子形貌更均匀，进一步提高AG制程良率。

与现有的技术相比，本发明通过增加一道物理抛光工序来提高AG玻璃表面微观颗粒度，提高均匀性，粒子凹坑直径极差由原来的40~60um，提高到极差在10以内。同时，因为粒子凹坑均匀性提高，AG制程中的暗斑和暗点蚀刻不良减少，不良率由原来的10%以上下降到到3%以下。

附图说明