[发明专利]用于处理纳米粒子或气态物质的腔体单元

权利要求书

1.一种用于处理纳米粒子或气态物质的腔体单元，其包括，

漏斗部，其设置有流入部，并且去除通过所述流入部流入的纳米粒子或气态物质中的粗颗粒，纳米粒子或气态物质引入于流入部；

过滤集尘部，其设置于所述漏斗部上，并且设置有过滤器单元，所述过滤器单元对所述粗颗粒得到去除的纳米粒子或气态物质进行过滤；以及

混合部，其设置于所述过滤集尘部上，并且设置有脉冲部，所述脉冲部向所述过滤器单元施加脉冲。

2.根据权利要求1所述的用于处理纳米粒子或气态物质的腔体单元，其特征在于，所述漏斗部还包括：

阀门部，其设置于下部并控制所述漏斗部的操作，并且以旋风集尘方式将所述粗颗粒去除至下部。

3.根据权利要求1或2所述的用于处理纳米粒子或气态物质的腔体单元，其特征在于，所述过滤器单元包括：

上部盖，其朝向所述脉冲部开放；

下部盖，其位于所述上部盖的另一端；以及

过滤器，其通过所述上部盖及所述下部盖进行固定，并且在外周面连续形成凹部和凸部，从而具有褶皱的形态。

4.根据权利要求3所述的用于处理纳米粒子或气态物质的腔体单元，其特征在于：

所述过滤器是陶瓷过滤器。

5.根据权利要求3或4所示的用于处理纳米粒子或气态物质的腔体单元，其特征在于，所述脉冲部包括：

脉冲生成部，其生成脉冲；

引入线，其与所述脉冲生成部相连接，并且引入至所述混合部的内部；以及

供给线，其与所述脉冲生成部相连接，并且向所述过滤器单元的上部盖方向供给脉冲。

6.权利要求1至5中任意一项所述的用于处理纳米粒子或气态物质的腔体单元，其特征在于，

在引入至所述流入部的纳米粒子或气态物质中注入硫氧化物反应剂，从而对硫氧化物进行一次去除，

所述纳米粒子或气态物质中未被去除的残留硫氧化物在所述过滤器单元中被捕集。

7.根据权利要求1至6中任意一项所述的用于处理纳米粒子或气态物质的腔体单元，其特征在于，还包括：

还原部，其在通过所述混合部的纳米粒子或气态物质中选择性地还原并去除氮氧化物，

所述还原部包括多个催化模块，所述多个催化模块沿着所述纳米粒子或气态物质的进行方向连续排列。

8.根据权利要求7所述的用于处理纳米粒子或气态物质的腔体单元，其特征在于，所述混合部包括：

喷射部，其将还原剂注入于所述纳米粒子或气态物质；以及

第一混合单元，其使得所述还原剂混合于所述纳米粒子或气态物质；

所述还原部包括第二混合单元，所述第二混合单元使得所述还原剂和所述纳米粒子或气态物质追加混合。