[发明专利]一种电镀液制备方法在审
申请号: | 201710316643.0 | 申请日: | 2017-05-08 |
公开(公告)号: | CN107099786A | 公开(公告)日: | 2017-08-29 |
发明(设计)人: | 何晓俊;吴长青;王威;刘宗林 | 申请(专利权)人: | 安徽长青电子机械(集团)有限公司 |
主分类号: | C23C18/16 | 分类号: | C23C18/16 |
代理公司: | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司34112 | 代理人: | 余成俊 |
地址: | 239300 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电镀 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及电镀技术领域,尤其涉及一种电镀液制备方法。
背景技术
无电解电镀为在工件上在没有外加电流的情况下,用纯化学的方法,形成一层致密的金属覆盖层,如化学镀镍、化学镀铜、化学镀银。现已成为一项成熟的电镀技术,目前主要应用于非晶圆的物品上;因此,在镀膜厚度均匀性方面并无严格要求,且极少有对于微孔电镀的要求。
近年来,随着半导体技术的快速发展,将无电解电镀技术应用于晶圆上的机会亦随着大幅增加;举凡如硅晶片或砷化镓晶片背面导孔(backsideviahole) 的电镀技术等。随着电子工业的发展,电子工业对无电解电镀技术的要求,越来越高,为此,对于无电解电镀技术的改良主要可由两方面着手:其一对无电解电镀设备加以改良,其二则是为研发新的电镀液配方。
电镀液的浓度变化会造成电镀层的不均匀性,需要补充,但是补充也会造成电镀液的不均匀,如果能够控制电镀液的浓度缓慢变化就会提高电镀层的均匀稳定性。
发明内容
本发明目的就是为了弥补已有技术的缺陷,提供一种电镀液制备方法。
本发明是通过以下技术方案实现的:
一种电镀液制备方法,步骤为:
(1)将胶粘剂与去离子水混合,搅拌溶解,再加入金属盐,加热至85-90℃,在500-600rpm转速下搅拌至水含量为10-15wt%,喷雾干燥,得到粉末;胶粘剂:去离子水:金属盐的质量比为7-8:25-30:14-16;
(2)将粉末与缓冲剂、导电剂、络合剂加入去离子水中,搅拌均匀即得。
所述金属盐为镍盐、铜盐、铟盐、锡盐、钴盐中的一种或多种。
所述导电剂为硫酸盐。
电镀液的pH值为5-9。
所述粉末的粒径为1-100μm。
所述胶粘剂为明胶、糊精、骨胶、皮胶、鲠胶、干酪素、血胶、聚乙烯醇中的一种或多种。
电镀液中金属盐的浓度为32-40g/L。
所述络合剂为氨基二甲叉膦酸盐、二乙烯三胺五甲叉膦酸盐或羟乙基乙二胺三甲叉膦酸、EDTA二钠、EDTA四钠。
本发明的优点是:本发明电镀液制备方法用胶粘剂对金属盐进行,粘附包裹,制成颗粒,能够使得金属离子缓慢释放,提高均镀性能,防止离子浓度变化过大,造成镀层不均匀,可以一次性补充多点金属盐,减少补充次数。
具体实施方式
一种电镀液制备方法,步骤为:
(1)将胶粘剂与去离子水混合,搅拌溶解,再加入金属盐,加热至86℃,在500rpm转速下搅拌至水含量为13wt%,喷雾干燥,得到粉末;胶粘剂:去离子水:金属盐的质量比为7.2:27:15;
(2)将粉末与缓冲剂、导电剂、络合剂加入去离子水中,搅拌均匀即得。
所述金属盐为镍盐、铜盐、铟盐,金属离子的摩尔比为1:2.3:0.5。
所述导电剂为硫酸盐。
电镀液的pH值为7。
所述粉末的粒径为20-80μm。
所述胶粘剂为明胶。
电镀液中金属盐的浓度为34g/L。
所述络合剂为氨基二甲叉膦酸盐、EDTA四钠按1:3质量比混合制成。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
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