[发明专利]一种液相剪切制备单分散胶体氮化硼纳米晶的方法

权利要求书

1.一种液相剪切制备单分散胶体氮化硼纳米晶的方法，其特征在于包括如下步骤：

（1）按氮与硼摩尔比1∶1～10，将氮源和硼源混合，在非氧化气氛，700℃～1300℃下固相反应5分钟～24小时获取前驱体；

（2）前驱体和剪切溶液的比例按质量比1：1～2000，在5℃～150℃溶液剪切前驱体15分钟～24小时，通过渗析、离心或过滤再分散获得析获取尺寸可控、单分散、高浓度的胶体氮化硼纳米晶。

2.如权利要求1所述的一种液相剪切制备单分散胶体氮化硼纳米晶的方法，其特征在于所述的氮源是由三聚氰胺或尿素中的一种或者几种。

3.如权利要求1所述的一种液相剪切制备单分散胶体氮化硼纳米晶的方法，其特征在于所述的硼源是硼酸、氧化硼、硼砂中的一种或几种。

4.如权利要求1所述的一种液相剪切制备单分散胶体氮化硼纳米晶的方法，其特征在于步骤（1）是以升温速率为2℃/min～10℃/min进行升温。

5.如权利要求1所述的一种液相剪切制备单分散胶体氮化硼纳米晶的方法，其特征在于所述步骤（2）剪切温度为40℃～60℃。

6.如权利要求1所述的一种液相剪切制备单分散胶体氮化硼纳米晶的方法，其特征在于所述的所述步骤（2）剪切溶液为甲醇、甲醛、乙醇、乙二醇、丙醇、双氧水、盐酸、硝酸或水的一种或几种。