[发明专利]提高熔石英光学元件抗紫外激光损伤的方法

权利要求书

1.一种提高熔石英光学元件抗紫外激光损伤的方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一、采用碱性溶液对熔石英元件进行超声清洗；超声清洗采用依次在60KHz、80KHz、120KHz、160KHz、180KHz、200KHz的超声频率下处理，每个频率处理时间为3～5min；在超声处理过程中，向碱性液溶液中通入氨气；所述氨气的通气速率为50-100mL/min；

步骤二、将碱性溶液清洗后的熔石英元件采用高纯水进行超声清洗，烘干；高纯水电阻率为15MΩ.cm，超声波频率为100～150KHz，超声时间为5～10min；在超声处理过程中，向高纯水中通入N₂气体；所述N₂气体的通气速率为100-150mL/min；

步骤三、将高纯水清洗后的熔石英元件进行亚玻璃化转变温度热处理，其过程为：将熔石英光学元件放入退火炉中，以2～5℃/min的速度升温至300℃，保温10～30min，然后以5～10℃/min的速度升温至600℃，保温1～3h，然后以10～15℃/min的速度升温至900℃，保温8～10h；自然冷却至室温；

步骤四、将热处理后的熔石英元件进行动态酸蚀刻，烘干；所述动态酸刻蚀的过程为：采用将熔石英元件放入HF溶液和NH4F溶液的混合溶液中，并采用依次在0.8MHz、1MHz、1.2MHz、1.3MHz、1.5MHz的兆声场频率下进行刻蚀，每个兆声场频率刻蚀时间为25～35min；所述混合溶液中HF的质量分数为2.4％、NH4F的质量分数为12％；

所述碱性溶液的制备方法为：按重量份，取氢氧化钠5～10份、氢氧化钾3～5份、尿素1～3份、EDTA四钠1～3份、烷基糖苷1～3份加入150～200份60～70℃的水中，搅拌均匀，冷却至室温后，加入水200～300份、聚乙烯吡咯烷酮0.5～1.5份、甘氨酸0.5～1份、椰油酰二乙醇胺0.5～1份、葡萄糖酸钠0.1～0.5份、2，4-二羟基二苯砜0.1～0.3份、1-乙基-3-甲基咪唑乳酸0.1～0.3份搅拌均匀，得到混合溶液，即碱性溶液。

2.如权利要求1所述的提高熔石英光学元件抗紫外激光损伤的方法，其特征在于，所述混合溶液还包括加入高压脉冲处理室中利用高压脉冲电场进行预处理的过程；所述高压脉冲处理室外围设置有冷水循环系统，其中循环冷水温度为1～3℃，水循环速度为1.5～2m/s；所述高压脉冲处理室中两极板的间距为3～5cm；高压脉冲处理参数为：脉冲幅度为15～25kV，脉冲频率为1000～1200Hz，脉冲宽度为10～15us。