[发明专利]一种地下综合管廊基础构造及其施工方法在审
申请号: | 201710499162.8 | 申请日: | 2017-06-27 |
公开(公告)号: | CN107190772A | 公开(公告)日: | 2017-09-22 |
发明(设计)人: | 战福军 | 申请(专利权)人: | 南京联众建设工程技术有限公司 |
主分类号: | E02D29/045 | 分类号: | E02D29/045;E02D27/32 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙)32204 | 代理人: | 李静 |
地址: | 211215 江苏省南京市溧*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 地下 综合 基础 构造 及其 施工 方法 | ||
技术领域
本发明公开了一种基础构造,尤其涉及一种地下综合管廊基础构造及其施工方法。
背景技术
申请人致力于管廊结构的研究及应用,并申请了诸多钢板结构综合管廊的相关专利,这些管廊在施工的过程中很难保证其底板与地面基础接触密实,特别是有一种周向钝角连接的综合管廊,整个廊体的四壁均为向廊体外侧起拱地弧形钢板,此种结构在使用时为了利用管土共同受力原理,结构件的四周必须具有高密实度的粗砂、土壤、砂石等回填介质;另外,这种结构底部是弧形时,底部与地面之间的空隙一般是采用塞土、塞砂,然后用木棒捣实。但这种施工方法费工费时,并且很难达到设计要求,一旦不密实对整体结构的受力及安全性就会带来严重的威胁。
因此,亟待解决上述技术难题。
发明内容
发明目的:本发明的第一目的是提供一种解决综合管廊施工过程中底部密实度不够以及无操作空间难题的地下综合管廊基础构造;本发明的第二目的是提供该基础构造的施工方法。
技术方案:本发明所述一种地下综合管廊基础构造,包括由顶板、底板和两侧板周向拼装形成单元管节,该底板的下方设有基础构造,该基础构造包括基础,该基础和底板之间设有支撑件并填充填充料,所述支撑件和填充料构成垫层,该垫层的上表面与底板的下表面贴合,以解决底板带弧度的综合管廊在施工和使用过程中底部密实度不够以及无操作空间等难题。
所述底板为向廊体外侧起拱的弧形板,同时该底板还是波纹板,其波纹纹路与廊体轴向延伸方向垂直。
其中,所述垫层的宽度大于或者等于底板投影面积的宽度,以保证管廊置于垫层上的稳定性。
优选的,所述支撑件为沙袋、木块和石块中的一种或多种;该支撑件的间隔布置。
所述填充料为泡沫混凝土,由于底板为弧形,甚至带有波纹,实际工程中,难以保证底部填充密实,所以可以利用泡沫混凝土的膨胀性使其密实。
本发明所述地下综合管廊基础构造的施工方法,主要包括如下步骤:
A、根据综合管廊确定所需基础宽度,平整基础;
B、在基础上沿廊体延伸方向布设支撑件,该支撑件优选为沙袋、木块和石块中的一种或者多种;
C、进行综合管廊的拼装:先在支撑件上铺设底板,使得底板通过支撑件置于基础的上方,支撑件将底板撑起,使底板下部与基础之间形成开放式腔体,再进行周向两侧板和顶板的安装;
D、在底板两侧的下方设置模板支架,该模板支架与底板还有基础形成密闭腔体;
E、在底板、基础、和模板支架所围成的空心腔体内灌注填充料,直至将腔体填充密实,待凝固期结束后拆除模板支架,填充料优选为泡沫混凝土,利用泡沫混凝土的膨胀性使得底板下方的腔体填充密实,形成垫层,以解决底板带弧度甚至带波纹的综合管廊施工过程中底部密实度不够以及无操作空间等难题;
F、进行后续廊体两侧以及顶部回填土的施工,直至完工。
其中,所述步骤D中,底板与两侧板的周向连接处设有纵向连接法兰,所述模板支架沿廊体延伸方向竖直布设,其高度与纵向连接法兰所处高度一致。
进一步,所述步骤C中,先沿轴向展开铺设一定数量的底板,然后再周向拼装两侧板及顶板形成综合管廊。
再者,所述步骤C中,预先将底板、顶板和两侧板周向拼装形成单元管节,再沿廊体延伸方向铺设一定数量的单元管节,形成综合管廊。
拼装综合管廊的过程中可直接现场拼装,亦可以拼装好单元管节后再在现场轴向拼装形成综合管廊,拼接方式可根据实际需求自由选择。
有益效果:与现有技术相比,本发明具有以下显著优点:首先,本发明通过在管廊底板下方设置基础构造,其中,在基础和底板之间设置支撑件并填充填充料构成垫层,该垫层与底板下表面紧密贴合,解决了带弧度底板或带波纹地板的综合管廊施工过程中底部密实度不够以及无操作空间等难题;其次,垫层内设置的支撑件可方便底板在铺设时的定位及调整位置;再者,施工时既可在直接现场拼装管廊,亦可拼装好单元管节后然后在现场拼装形成管廊,拼接方式可根据实际需求自由选择,拼装快捷方便;最后,该基础构造与廊体完美贴合,结构受力与强度均得到很好的保障,同时施工周期短,拼装速度得到极大改善,加快了整个工程的施工进度。
附图说明
图1和图2为本发明基础构造的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的技术方案作进一步说明。
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