[发明专利]一种线栅偏振器、其制作方法及显示面板

权利要求书

1.一种线栅偏振器，其特征在于，包括：设置在衬底基板上的若干条线栅；其中，

所述线栅相互平行排列、且每相邻两条线栅之间的间距相等；

至少一条所述线栅包括线栅主体、以及包覆在所述线栅主体表面的保护膜；

所述保护膜材料的硬度和抗腐蚀能力大于所述线栅主体材料的硬度和抗腐蚀能力；

所述线栅偏振器还包括：

设置在所述线栅上远离所述衬底基板的一侧、且与所述线栅的排列方式相同的硬掩膜；

所述线栅在所述衬底基板上的正投影与所述硬掩膜在所述衬底基板上的正投影互相重叠；

所述保护膜的厚度是硬掩模宽度与所述线栅的宽度的差值的一半，以使所述线栅的侧面与对应的硬掩模的侧面平齐，其中，所述保护膜的厚度为0.1微米-0.2微米。

2.如权利要求1所述的线栅偏振器，其特征在于，所述保护膜的材料为下列材料之一或组合：

镍，或铜。

3.如权利要求1所述的线栅偏振器，其特征在于，所述线栅的材料包括：铝；

所述硬掩膜的材料包括下列材料之一或组合：

氧化硅，或氮化硅。

4.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-3中任一项所述的线栅偏振器。

5.一种线栅偏振器的制作方法，其特征在于，包括：

将具有线栅图案的线栅偏振器浸入到反应液中，利用所述反应液中的活化剂，对所述线栅图案中的线栅主体进行活化处理，溶解所述线栅主体表面的氧化膜，使所述线栅主体的材料裸露出来，作为用于为所述线栅主体的表面镀保护膜的活性位点；

依次向所述反应液中加入能够为所述线栅主体的表面镀保护膜的主盐和各添加剂，通过所述反应液中各组分之间的化学反应，从所述活性位点位置处开始镀保护膜材料，以使所述线栅主体的表面沉积一层保护膜，形成最终待制作线栅的图案；

将具有线栅图案的线栅偏振器浸入到反应液之前，还包括：

依次在衬底基板上形成线栅薄膜和硬掩膜薄膜；

在所述硬掩膜薄膜上形成与待制作的硬掩膜的图案相同的光刻胶图案；

以所述光刻胶图案为遮挡，对所述硬掩膜薄膜采用干刻工艺，形成硬掩膜图案；

以所述硬掩膜图案为遮挡，对所述线栅薄膜采用干刻工艺，形成线栅图案；

其中，所述保护膜的厚度是硬掩模宽度与所述线栅主体的宽度的差值的一半，以使所述线栅的侧面与对应的硬掩模的侧面平齐，其中，所述保护膜的厚度为0.1微米-0.2微米。

6.如权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述主盐包括但不仅限于：硫酸镍；

所述各添加剂包括但不仅限于以下材料：

氨基乙酸，次亚磷酸钠，柠檬酸，丁二酸，乙酸，硫脲，以及十二烷基硫酸钠。

7.如权利要求5所述的制作方法，其特征在于，通过控制下列参数中的一个或者多个参数来控制沉积的保护膜的厚度：

所述主盐和所述各添加剂的浓度、反应的时间、或反应的温度。