[发明专利]一种图形转角的OPC修正方法有效

专利信息
申请号: 201710636987.X 申请日: 2017-07-31
公开(公告)号: CN107479331B 公开(公告)日: 2020-05-15
发明(设计)人: 张月雨;汪悦;毛智彪 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F1/36
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人: 吴世华;陈慧弘
地址: 201210 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 图形 转角 opc 修正 方法
【权利要求书】:

1.一种图形转角的OPC修正方法,其特征在于,包括以下步骤:

S01:输入含有目标图形的原始版图,其中,位于目标图形中两个邻边夹角为90度的顶点为凸角转角,位于目标图形中两个邻边夹角为270度的顶点为凹角转角,所述凸角转角和凹角转角的两个邻边长度大于该原始版图的最小线宽;

S02:对原始版图做转角处理,得到修正目标层,所述转角处理具体为:在凸角转角的外部添加至少一个矩形修正图形,添加的矩形修正图形的对角线均位于该凸角转角的角平分线上,且矩形图形的一个顶点与该凸角转角重合或者位于该凸角转角所在的目标图形中,添加的矩形修正图形不与该凸角转角所在的目标图形以外的其他目标图形重合;其中,当所述凸角转角与该凸角转角所在的目标图形以外的其他目标图形之间的间距大于等于间距阈值时,在凸角转角的外部添加一个矩形修正图形Ⅰ,当所述凸角转角与该凸角转角所在的目标图形以外的其他目标图形之间的间距小于间距阈值时,在凸角转角的外部添加至少两个矩形修正图形Ⅱ,间距阈值由所述原始版图的最小线宽决定;

在凹角转角的内部挖除至少一个矩形修正图形,该矩形修正图形的一个顶点与该凹角转角重合或者位于该凹角转角所在的目标图形外,且其对角线位于该凹角转角的角平分线上,该矩形修正图形的其他顶点均位于该凹角转角所在的目标图形中;

S03:对修正目标层做基于模型的OPC修正,得到掩模层。

2.根据权利要求1所述的一种图形转角的OPC修正方法,其特征在于,所述间距阈值为原始版图中最小线宽的1-4倍。

3.根据权利要求1所述的一种图形转角的OPC修正方法,其特征在于,当所述凹角转角所在的目标图形的线宽大于等于线宽阈值时,在凹角转角的内部挖除一个矩形修正图形Ⅰ;当所述凹角转角所在的目标图形的线宽小于线宽阈值时,在凹角转角的内部挖除至少一个矩形修正图形Ⅱ,线宽阈值由所述原始版图的最小线宽决定。

4.根据权利要求3所述的一种图形转角的OPC修正方法,其特征在于,所述线宽阈值为原始版图中最小线宽的1-4倍。

5.根据权利要求1或3所述的一种图形转角的OPC修正方法,其特征在于,所述矩形修正图形Ⅰ的边长为30nm-120nm。

6.根据权利要求1或3所述的一种图形转角的OPC修正方法,其特征在于,所述矩形修正图形Ⅱ的边长为10nm-80nm。

7.根据权利要求1所述的一种图形转角的OPC修正方法,其特征在于,所述凸角转角和凹角转角的两个邻边长度大于长度阈值,所述长度阈值由该原始版图的最小线宽决定。

8.根据权利要求7所述的一种图形转角的OPC修正方法,其特征在于,所述长度阈值大于等于原始版图中最小线宽。

9.根据权利要求1所述的一种图形转角的OPC修正方法,其特征在于,当添加的矩形修正图形的一个顶点位于目标图形中时,该矩形修正图形与目标图形重叠部分边长为0nm~50nm;当挖除的矩形修正图形的一个顶点位于目标图形外时,该矩形修正图形与目标图形外重叠部分边长为0nm~50nm。

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