[发明专利]显影设备的排气系统及其调节机构

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显影设备的排气系统及其调节机构。

背景技术

现有技术一般通过光刻胶工艺制造TFT(Thin Film Transistor,薄膜晶体管)，当前的光刻胶工艺包括涂布光阻、曝光、显影以及刻蚀等多道制程。在显影制程中，显影设备的排气十分重要，例如当显影设备的排气流量不稳定时，显影腔体内容易出现气流紊乱现象，导致在显影液未涂布完成之前显影蒸汽提前轰击至待显影基板的光阻上，由于光阻对显影液异常敏感，因此会导致待显影基板上的部分光阻提前显影，造成原本该由光阻保护的区域裸露，从而出现光阻断线问题，这无疑会在后续的刻蚀制程中造成TFT等电路图案断路。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种显影设备的排气系统及其调节机构，能够对显示设备均匀排气，避免因显影腔体内气流紊乱导致的光阻断线问题，从而降低刻蚀制程中出现电路图案断路的几率。

本发明一实施例的显影设备的排气系统，包括：

多个排气口，沿着待显影基板的流水线方向依序设置；

排气机构，分别设置于每个所述排气口，并使得所述排气口的排气能力沿着所述流水线方向依序增强；

调节机构，其壳体内设有气流通道，气流通道的两端分别设有第一开口和第二开口，第一开口面积大于第二开口面积，且第二开口数量为多个，第一开口或第二开口与排气系统的排气口匹配相通。

本发明一实施例的用于显影设备的排气系统的调节机构，包括壳体，所述壳体内设有气流通道，气流通道的两端分别设有第一开口和第二开口，第一开口面积大于第二开口面积，且第二开口数量为多个，第一开口或第二开口与排气系统的排气口匹配相通。

有益效果：本发明设计在显示设备的排气口处增加与排气口导通的调节机构，该调节机构的气流通道设置有多个第二开口，多个第二开口能够避免单一排气口排气造成的气流紊乱现象，从而实现对显示设备均匀排气，避免因显影腔体内气流紊乱导致的光阻断线问题，进而降低刻蚀制程中出现电路图案断路的几率。

附图说明

图1是本发明一实施例的显影设备的排气系统的结构示意图；

图2是本发明一实施例的调节机构的结构示意图；

图3是图2所示调节机构另一视角的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明所提供的各个示例性的实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。在不冲突的情况下，下述各个实施例及其技术特征可以相互组合。并且，本发明下文各个实施例所采用的方向性术语，例如“上”、“下”等，均是为了更好的描述各个实施例，并非用于限制本发明的保护范围。

图1是本发明一实施例的显影设备的排气系统的结构示意图。请参阅图1所示，所述显影设备的排气系统10包括多个排气口(又称厂务排气口)11、多个排气机构12以及多个调节机构13。

多个排气口11可以沿着待显影基板20的流水线方向(如图1所示的箭头方向)依序设置。每一排气口11处可设置阀门111，例如手动式阀门或电控式阀门，用于调节排气口12的排气风量。

进一步地，每一排气口11处对应设置有一个排气机构12，该排气机构12可以为抽风机，用于在显影腔体内外产生负压，使得排气方向由显影腔体内部朝向外部，以此将显影腔体内的气体排出。另外，本实施例的排气机构12还可以调节各个排气口11的排气能力，例如，对于沿着待显影基板20的流水线方向显影液的浓度依次增高的情况，排气机构12可以调节多个排气口11的排气能力，使其排气能力沿着流水线方向依序增强。具体地，参阅图1，沿所述流水线方向，第一个排气机构12可以调节第一个排气口11处的气压为-100～-50Pa，第二个排气机构12可以调节第二个排气口11处的气压为-200～-100Pa，第一个排气机构12可以调节第一个排气口11处的气压为-300～-200Pa。